铠侠股份有限公司水野央之获国家专利权
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龙图腾网获悉铠侠股份有限公司申请的专利衬底处理装置、衬底处理方法、气体再生系统、及气体再生方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115020176B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110918425.0,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权衬底处理装置、衬底处理方法、气体再生系统、及气体再生方法是由水野央之设计研发完成,并于2021-08-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本衬底处理装置、衬底处理方法、气体再生系统、及气体再生方法在说明书摘要公布了:实施方式提供一种能够抑制稀有气体费用增大且降低气体再生设备的初始费用及维护成本等的衬底处理装置、衬底处理方法、气体再生系统、及气体再生方法。实施方式的气体再生方法包含如下操作:基于工艺配方中所设定的稀有气体的流量来设定规定的基准,基于所述规定的基准选定稀有气体回收步骤,在所述稀有气体回收步骤中,将来自规定腔室的排出气体导向稀有气体再生设备,在所述稀有气体回收步骤以外的步骤中,使所述排出气体避开所述稀有气体再生设备。
本发明授权衬底处理装置、衬底处理方法、气体再生系统、及气体再生方法在权利要求书中公布了:1.一种气体再生方法,包含如下操作: 基于工艺配方中设定的稀有气体的流量来设定规定的基准; 基于所述规定的基准来选定稀有气体回收步骤; 在所述稀有气体回收步骤中,将来自规定腔室的排出气体导向稀有气体再生设备;以及 在所述稀有气体回收步骤以外的步骤中,避开所述稀有气体再生设备使所述排出气体排出;其中 设定所述规定基准的操作包含如下操作: 求出所述工艺配方的每个步骤的稀有气体使用量; 将各步骤的稀有气体使用量合计并求出总使用量; 计算每个所述步骤的使用量相对于所述总使用量的使用率;以及 基于计算出的所述使用率设定基准使用率; 选定所述稀有气体回收步骤的操作包含如下操作: 将所述使用率为所述基准使用率以上的步骤选定为所述稀有气体回收步骤,不将所述使用率小于所述基准使用率的步骤选定为所述稀有气体回收步骤。
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