大庆溢泰半导体材料有限公司刘砚滨获国家专利权
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龙图腾网获悉大庆溢泰半导体材料有限公司申请的专利一种高质量INP加工设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115229589B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210677244.8,技术领域涉及:B24B7/22;该发明授权一种高质量INP加工设备是由刘砚滨;赵中阳;赵春锋;于会永设计研发完成,并于2022-06-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高质量INP加工设备在说明书摘要公布了:本发明公开了一种高质量INP加工设备,包括工作台,废水收集盒工作台的背面活动安装有磨平装置,废水收集盒工作台的左右两侧均活动安装有冷却组件,废水收集盒工作台的正面活动安装有排除组件,废水收集盒排除组件的顶端活动安装有预留组件。利用磨平装置可以同时对两个INP晶片进行加工处理,从而提高了整体设备的加工效率,利用预留组件可以预先安排好INP晶片的安置动作,因此可以有效的节约整体的工作时间,因此达到了提高加工效率的效果,设置排除组件可以有效的将冷却组件与预留组件进行联动,使得其可以配合预留组件完成预备安置动作,配合冷却组件可以推动废液的集中回收进程,因此进一步的达到了提升整体装置环保性和实用性的效果。
本发明授权一种高质量INP加工设备在权利要求书中公布了:1.一种高质量INP加工设备,包括工作台1,其特征在于,所述工作台1的背面活动安装有磨平装置2,所述工作台1的左右两侧均活动安装有冷却组件3,所述工作台1的正面活动安装有排除组件4,所述排除组件4的顶端活动安装有预留组件5; 所述工作台1的侧面固定连通有进水管11,所述工作台1的顶面固定安装有安置台12,所述工作台1的顶面开设有排水槽13,所述工作台1的正面固定安装有导轨14,所述工作台1的底部固定安装有接收盒15,所述接收盒15的侧面开设有引流槽16,所述接收盒15的底面与工作台1的内部均开设有斜方槽17,所述工作台1的侧面固定安装有废水收集盒18,所述废水收集盒18的底端固定连通有导出管; 所述冷却组件3包括冷却管31,所述冷却管31的表面固定安装有安装环32,所述安装环32的侧面固定安装有直杆,所述直杆的底端固定安装有固定板33,所述固定板33的内部活动套接有传动板34,所述传动板34的右端固定安装有清理垫35,所述固定板33的底端螺纹安装有螺杆36; 所述排除组件4包括安装管41,所述安装管41的表面开设有滑动槽42,所述安装管41的内侧固定安装有T形连接轴43,所述T形连接轴43的底端固定安装有限位柱44,所述限位柱44的底端固定安装有直板45,所述直板45的底端一体形成有推板46; 所述预留组件5包括垫环51,所述垫环51的侧面固定安装有U形管52,所述U形管52的一端一体形成有连接盘53,所述连接盘53的内壁固定连接有弹簧54,所述连接盘53的侧面固定安装有螺纹环55,所述螺纹环55的内部螺纹安装有双纹螺杆56,所述U形管52的表面活动套接有安装盒57,所述安装盒57的侧面固定安装有连接柱58,所述预留组件5的数量为两个; 所述限位柱44的左右两端均滑动安装在导轨14的内部,所述推板46的左右两侧均贴合在接收盒15内壁的左右两侧,所述滑动槽42的数量为四个,所述安装管41的数量为两个,两个所述安装管41的大小和安置台12的大小相适配; 所述垫环51的大小和滑动槽42的大小相适配,所述连接柱58的一端固定安装在安装管41的正面,所述安装盒57的左侧表面开设有方槽,所述方槽的形状和弹簧54的形状相适配。
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