广州华星光电半导体显示技术有限公司刘伟获国家专利权
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龙图腾网获悉广州华星光电半导体显示技术有限公司申请的专利一种阵列基板及其制备方法、显示面板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115312541B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210927793.6，技术领域涉及：H10D86/40；该发明授权一种阵列基板及其制备方法、显示面板是由刘伟设计研发完成，并于2022-08-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种阵列基板及其制备方法、显示面板在说明书摘要公布了：本申请实施例公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板，阵列基板包括基板；有源层，设于所述基板的一侧；第一绝缘层，设于所述基板的一侧且覆盖所述有源层，其中，第一绝缘层对应所述有源层处设有第一开孔和第二开孔，所述第一开孔对应所述有源层的边缘处，第二开孔对应所述有源层的中部；第一金属层，设于所述第一开孔内且与所述有源层连接；浮动金属层，设于所述第二开孔内且与所述有源层连接，其中，第一金属层和浮动金属层相互绝缘；第一钝化层，设于所述第一绝缘层远离基板的一侧，且覆盖所述第一金属层和所述浮动金属层。
本发明授权一种阵列基板及其制备方法、显示面板在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板，其特征在于，包括 基板； 有源层，设于所述基板的一侧；所述有源层的材料为非晶铟镓锌氧化物； 第一绝缘层，设于所述基板的一侧且覆盖所述有源层，其中，第一绝缘层对应所述有源层处设有第一开孔和第二开孔，所述第一开孔对应所述有源层的边缘处，第二开孔对应所述有源层的中部； 第一金属层，设于所述第一开孔内且与所述有源层连接； 浮动金属层，设于所述第二开孔内且与所述有源层连接，其中，第一金属层和浮动金属层相互绝缘；所述有源层包括导体化区域和沟道，所述导体化区域设于所述沟道的边缘处，所述浮动金属层对应所述沟道； 第一钝化层，设于所述第一绝缘层远离基板的一侧，且覆盖所述第一金属层和所述浮动金属层。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人广州华星光电半导体显示技术有限公司，其通讯地址为：510700 广东省广州市黄埔区(中新广州知识城)亿创街1号406房之417；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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