中国科学院微电子研究所王嘉硕获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院微电子研究所申请的专利光刻胶模型校准的优化图形选择方法、装置、系统和介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115616874B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211385426.4，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光刻胶模型校准的优化图形选择方法、装置、系统和介质是由王嘉硕;韦亚一;董立松;苏晓菁设计研发完成，并于2022-11-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻胶模型校准的优化图形选择方法、装置、系统和介质在说明书摘要公布了：本申请提供了一种光刻胶模型校准的优化图形选择方法、装置、系统和介质，该方法包括：获取多个初始优化图形；对多个初始优化图形进行傅里叶变换得到各个初始优化图形分别对应的频谱；检测各个初始优化图形分别对应的频谱与其他频谱重复的个数，并根据从大到小重复的个数对各个初始优化图形进行排序；对各个初始优化图形的特征尺寸进行排序；选择各个初始优化图形中排序前第一预设名次的图形、后第二预设名次的图形和各个初始优化图形中特征尺寸最小的图形作为最终优化图形。从而本申请提出的基于频谱重复量的优化图形选择方式可以避免基于经验的选择方式中图形选择较为盲目的现象，降低了图形选择难度和时间成本，同时也提升了模型校准精度。
本发明授权光刻胶模型校准的优化图形选择方法、装置、系统和介质在权利要求书中公布了：1.一种光刻胶模型校准的优化图形选择方法，其特征在于，包括： 获取多个初始优化图形； 对多个所述初始优化图形进行傅里叶变换得到各个所述初始优化图形分别对应的频谱； 检测各个所述初始优化图形分别对应的频谱与其他频谱重复的个数，并根据从大到小所述重复的个数对各个所述初始优化图形进行排序； 对各个所述初始优化图形的特征尺寸进行排序； 选择各个所述初始优化图形的根据所述重复的个数的排序中排序前第一预设名次的图形与后第二预设名次的图形，和各个所述初始优化图形中特征尺寸最小的图形，作为最终优化图形。
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