戴森技术有限公司D.佐尔凯夫卡获国家专利权
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龙图腾网获悉戴森技术有限公司申请的专利光催化空气处理获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115697526B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180041597.2，技术领域涉及：B01D53/00；该发明授权光催化空气处理是由D.佐尔凯夫卡;M.德特雷;K.阿姆斯壮设计研发完成，并于2021-04-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本光催化空气处理在说明书摘要公布了：提供了一种包括反应室的光催化反应器。该反应室包括第一组翅片、第二组翅片、设置在每个翅片的至少一个面上的光催化剂、以及布置成照射设置在每个翅片上的光催化剂的至少一部分的光源。第一组翅片中的每一个布置成使得从翅片基部延伸穿过翅片尖端的线指向第一会聚点，并且第二组翅片中的每一个布置成使得从翅片基部延伸穿过翅片尖端的线指向第二会聚点。第一会聚点不同于第二会聚点，并且第一会聚点和第二会聚点都相对于光源的位置偏移。
本发明授权光催化空气处理在权利要求书中公布了：1.一种光催化反应器，包括： 反应室，布置成接收包含一种或多种气载污染物的气流，所述反应室包括： 第一组翅片、第二组翅片、设置在每个翅片的至少一个面上的用于光催化降解一种或多种污染物的光催化剂、以及光源，所述光源布置成照射设置在每个翅片上的光催化剂的至少一部分，以促进光催化降解； 其中，所述第一组翅片中的每一个布置成使得从翅片的基部延伸穿过翅片的尖端的线指向第一会聚点； 其中，所述第二组翅片中的每一个布置成使得从翅片的基部延伸穿过翅片的尖端的线指向第二会聚点；并且 其中，所述第一会聚点不同于所述第二会聚点，并且所述第一会聚点和所述第二会聚点都相对于所述光源的位置偏移， 其中，所述第一组翅片从所述反应室的第一内表面向内延伸，所述第二组翅片从所述反应室的第二内表面向内延伸，并且所述第一内表面和所述第二内表面通常面向所述光源， 其中，所述第一内表面和所述第二内表面围绕所述光源的光轴对称布置，使得第一组翅片布置成由光源的第一半照射，第二组翅片布置成由光源的第二半照射。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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