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龙图腾网获悉中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司申请的专利建立光学邻近校正模型的方法及光学邻近校正的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115755528B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111034437.3，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权建立光学邻近校正模型的方法及光学邻近校正的方法是由李其衡;粟雅娟;董立松;张利斌;陈睿;苏晓菁设计研发完成，并于2021-09-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本建立光学邻近校正模型的方法及光学邻近校正的方法在说明书摘要公布了：本申请公开了一种建立光学邻近校正模型的方法及光学邻近校正的方法。该建立光学邻近校正模型的方法，包括：针对设计好的各图案，根据各图案之间的密切系数来划分图案组；分别为划分好的每个图案组建立相匹配的光学邻近校正模型；其中，密切系数包括图案形状异同、图案密度、图案与自身周围图案的距离以及图案功能异同中的至少一个参数。本公开的建立光学邻近校正模型的方法，根据各图案之间的密切系数来划分图案组，分别为划分好的每个图案组建立相匹配的光学邻近校正模型，大大提高了各图案组所对应的光学邻近校正模型的匹配度，从而能够实现在利用各光学邻近校正模型对相匹配的图案组进行图案模型化时降低图案模型化时产生的误差和不良率。

本发明授权建立光学邻近校正模型的方法及光学邻近校正的方法在权利要求书中公布了：1.一种建立光学邻近校正模型的方法，其特征在于，包括： 针对设计好的各图案，根据所述各图案之间的密切系数来划分图案组； 分别为划分好的每个图案组建立相匹配的光学邻近校正模型； 其中，所述密切系数包括图案密度、图案与自身周围图案的距离中的至少一个参数； 所述根据所述各图案之间的密切系数来划分图案组，包括： 从所述设计好的各图案中选定一个初始图案，以所述初始图案作为图案组合； 从所述图案组合周围的图案中选择一个备选图案加入所述图案组合；所述备选图案为与所述图案组合的中心点的距离小于预设阈值的图案； 计算加入所述备选图案后的图案组合的图案密度； 若计算得到的图案密度小于或等于预设密度阈值，则确定将所述备选图案留在所述图案组合内；否则，将所述备选图案从所述图案组合中排除； 转向从所述图案组合周围的图案中选择一个备选图案加入所述图案组合，直至所述图案组合周围的图案中不存在备选图案为止，将得到的图案组合作为一个图案组。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司，其通讯地址为：100029 北京市朝阳区北土城西路3号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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