ASML荷兰有限公司任伟明获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利用于补偿单束或多束设备中的分束器的色散的系统和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115881498B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211651256.X，技术领域涉及：H01J37/05；该发明授权用于补偿单束或多束设备中的分束器的色散的系统和方法是由任伟明;刘学东;胡学让;罗希楠;陈仲玮设计研发完成，并于2018-07-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于补偿单束或多束设备中的分束器的色散的系统和方法在说明书摘要公布了：提供了用于补偿单束或多束设备中的分束器的色散的系统和方法。本公开的实施例提供了分散装置，分散装置包括被配置为诱导束色散的静电偏转器和磁性偏转器，束色散被设置以消除由分束器生成的色散。静电偏转器和磁性偏转器的组合可以用于在所诱导的束色散被改变以补偿由分束器生成的色散变化时，将由于分散装置引起的偏转角保持不变。在一些实施例中，由于分散装置而引起的偏转角可以被控制为零，并且没有由于分散装置而引起的初级束轴变化。
本发明授权用于补偿单束或多束设备中的分束器的色散的系统和方法在权利要求书中公布了：1.一种用于具有分束器和物镜的带电粒子束系统的分散装置，所述分散装置包括： 静电偏转器和磁性偏转器，被配置用于对入射到系统的样品上的带电粒子束诱导第一束色散，其中所述第一束色散被调整为消除由分束器引起的束的第二束色散的影响， 其中静电偏转器被配置为在所述带电粒子束上施加第一力，并且磁性偏转器被配置为在所述带电粒子束上施加第二力，并且第一力和第二力基本上彼此相反并形成第一束色散， 其中当相对于所述第二束色散改变所述第一束色散时，由于所述分散装置引起的束的偏转角不变，并且 其中所述第一束色散的调整引起与所述物镜相关联的物平面的位置的调整，所述物平面是所述带电粒子束的一部分带电粒子的虚拟焦平面。
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