株式会社国际电气三部诚获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社国际电气申请的专利基板处理装置、基板处理方法、半导体器件的制造方法及记录介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115997274B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080104516.4，技术领域涉及：H10P14/60；该发明授权基板处理装置、基板处理方法、半导体器件的制造方法及记录介质是由三部诚;平野敦士;阿部贤卓设计研发完成，并于2020-09-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置、基板处理方法、半导体器件的制造方法及记录介质在说明书摘要公布了：基板处理装置具有：筒状的外管，其上端被封堵且下端开口；内管，其设在外管的内部，形成为上端被封堵且下端开口的筒状，能够在内部对基板进行处理；形成为筒状的歧管，其与外管的下端和内管的下端连接，且与内管的处理室连通，具备相对于内管与外管之间的环状空间隔离的排气空间；处理气体喷管，其向内管的内部供给进行基板处理的处理气体；吹扫气体喷管，其向环状空间供给吹扫气体；以及流导可变部，其设在环状空间与排气空间之间，使气体能够从环状空间与排气空间之间通过。
本发明授权基板处理装置、基板处理方法、半导体器件的制造方法及记录介质在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，具有： 筒状的外管，其上端被封堵且下端开口； 内管，其设在所述外管的内部，形成为上端被封堵且下端开口的筒状，能够在内部对基板进行处理； 形成为筒状的歧管，其设在所述外管及所述内管的下方，与所述内管的内部空间连通，具备相对于所述内管与所述外管之间的环状空间隔离的排气空间； 处理气体喷管，其向所述内管的内部供给进行所述基板的处理的处理气体； 吹扫气体喷管，其向所述环状空间供给吹扫气体；以及 流导可变部，其设在所述环状空间与所述排气空间之间的隔壁部，使气体能够从所述环状空间与所述排气空间之间通过，且能够使所述气体通过的流导可变， 所述流导可变部具有贯穿设置在所述隔壁部上的至少一个螺纹孔和与所述螺纹孔螺合的螺钉。
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