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北京理工大学姜澜获国家专利权

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龙图腾网获悉北京理工大学申请的专利一种基于倍频贝塞尔激光选择性刻蚀的石英振梁加工方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116160121B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211356034.5,技术领域涉及:B23K26/362;该发明授权一种基于倍频贝塞尔激光选择性刻蚀的石英振梁加工方法是由姜澜;鲁意博;李欣;王猛猛;王素梅;陈博设计研发完成,并于2022-11-01向国家知识产权局提交的专利申请。

一种基于倍频贝塞尔激光选择性刻蚀的石英振梁加工方法在说明书摘要公布了:本发明公开的一种基于倍频贝塞尔激光选择性刻蚀的石英振梁加工方法,属于飞秒激光应用技术领域。本发明在Z切α石英晶片双面镀金膜,利用光刻和等离子体刻蚀工艺在金膜上刻蚀出谐振器图案,作为刻蚀过程的保护层兼后续加速度计的表面电极;利用锥透镜将飞秒激光高斯光束在空间上整形成具有长焦深的贝塞尔光束,利用平凸透镜和聚焦物镜组成4F系统对贝塞尔光束进行缩束,并将其聚焦在石英晶片内部,沿上述谐振器图案轮廓进行扫描加工。飞秒激光辐照Z切石英晶体后,引起辐照区域石英晶体结构无定型化,导致辐照区域在氢氟酸溶液中刻蚀速率加快,刻蚀后样品沿改性的轮廓脱落,得到石英振梁。本发明具有振梁侧壁垂直度高、均一性好、无侧蚀等优点。

本发明授权一种基于倍频贝塞尔激光选择性刻蚀的石英振梁加工方法在权利要求书中公布了:1.一种基于倍频贝塞尔激光选择性刻蚀的石英振梁加工方法,其特征在于,包含以下步骤: 步骤一:将100-150μm厚度,边长20-40mm大小的Z切α石英晶片样品分别采用丙酮、无水乙醇和去离子水进行超声清洗,然后利用压缩空气将样品吹干,采用磁控溅射镀膜的方式,在石英晶片样品双面先后镀上铬膜和金膜; 步骤二:分别在α石英晶片样品双面悬涂光刻胶,利用双面光刻曝光、显影技术分别在α石英晶片样品双面光刻出光刻胶谐振器图案;利用等离子体刻蚀的方式将上述光刻胶谐振器图案中所暴露出来的金和铬膜层刻蚀掉,暴露出石英基底,得到去除金铬膜层的谐振器图案; 步骤三:搭建倍频贝塞尔光束飞秒激光加工系统,其中波长为400±5nm的飞秒激光由800±20nm飞秒激光经倍频晶体倍频后产生,得到双波长混频激光,后利用带通滤光片过滤掉其中800nm的波长成分,得到400±5nm飞秒激光;贝塞尔光束整形装置包括底角为2°的锥透镜,焦距100mm的平凸透镜和50x聚焦物镜;高斯型飞秒激光经过锥透镜之后被整形成贝塞尔光束,平凸透镜和聚焦物镜共同组成4F缩束系统,将经锥透镜后整形成的贝塞尔光束进一步缩束; 步骤四:将上述带金铬膜层谐振器图案的Z切α石英晶片样品固定于精密三维电控平移台上,将波长400nm的倍频贝塞尔光束聚焦在石英晶片内部,通过控制平移台的运动,使贝塞尔光束沿上述谐振器图案的轮廓进行扫描加工,轮廓外形即为激光改性区; 步骤五:将加工好的石英晶片样品分别采用丙酮、乙醇和去离子水进行超声清洗,并用压缩空气吹干,后置于质量分数5%的氢氟酸溶液中进行充分刻蚀,直至改性轮廓刻蚀完全,闭合轮廓区域脱落,在石英晶片样品上留下石英振梁加速度计谐振器阵列; 所述贝塞尔光束加工参数为:脉冲能量为6-8μJ,激光中心波长400nm,脉冲延时35fs,扫描速度100~200μms,贝塞尔光束光场中心相对石英晶片上表面的离焦量为50-90μm。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人北京理工大学,其通讯地址为:100081 北京市海淀区中关村南大街5号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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