大连工业大学;中昊光明化工研究设计院有限公司郝敬爱获国家专利权
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龙图腾网获悉大连工业大学;中昊光明化工研究设计院有限公司申请的专利一种以吡啶衍生物为氢键受体的低共熔溶剂及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116371148B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310428572.9，技术领域涉及：B01D53/14；该发明授权一种以吡啶衍生物为氢键受体的低共熔溶剂及其制备方法和应用是由郝敬爱;王清华;刘金钰;安庆大;梁肃臣设计研发完成，并于2023-04-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种以吡啶衍生物为氢键受体的低共熔溶剂及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开一种吡啶衍生物基的低共熔溶剂及其制备方法和应用，所述低共熔溶剂由吡啶衍生物作为氢键受体，以多元醇或多元酚作为氢键供体；其制备方法包括以下步骤：将吡啶衍生物与氢键供体按1:0.5～6摩尔比例混合，在60～120℃的条件下搅拌至均匀，再在60～120℃真空条件下干燥、冷却至室温，得到低共熔溶剂。本发明制备的吡啶衍生物基低共熔溶剂中醇羟基和酚羟基基团与氨气分子存在氢键相互作用，有利于实现氨气的高效吸收，通过简单地减压和升温操作即可实现氨气的解吸再生，具有易合成、易再生、稳定性好、氨气吸收量高等特点，而且在氨气的分离及储存方面也具有良好的应用前景。
本发明授权一种以吡啶衍生物为氢键受体的低共熔溶剂及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种以吡啶衍生物为氢键受体的低共熔溶剂的应用，其特征在于，用于氨气的吸收、捕集； 所述低共熔溶剂，由吡啶衍生物为氢键受体与氢键供体组成；所述吡啶衍生物为2-氨基吡啶、3-氨基吡啶、2-羟基吡啶、3-羟基吡啶、4-羟基吡啶、2-乙酰基吡啶、2-氨甲基吡啶中的一种；所述氢键供体为多元醇或多元酚。
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