台湾积体电路制造股份有限公司陈泰佑获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利用于极紫外(EUV)光刻系统的方法和EUV光刻系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116382038B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310093587.4，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于极紫外(EUV)光刻系统的方法和EUV光刻系统是由陈泰佑;潘子融;陈冠宏;余昇刚;简上杰;陈立锐;刘恒信设计研发完成，并于2023-02-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于极紫外(EUV)光刻系统的方法和EUV光刻系统在说明书摘要公布了：本发明提供了用于极紫外EUV光刻系统的方法，该极紫外光刻系统包括具有激光器件的辐射源，该激光器件配置有用以产生EUV辐射的机构。该方法包括：以3维3D模式收集来自激光器件的激光束的激光束轮廓；以3D模式收集由激光束产生的EUV辐射的EUV能量分布；对激光束轮廓和EUV能量分布实施分析，获得分析数据；以及根据分析数据调节辐射源，以增强EUV辐射。本发明的实施例还提供了极紫外EUV光刻系统。
本发明授权用于极紫外(EUV)光刻系统的方法和EUV光刻系统在权利要求书中公布了：1.一种用于极紫外光刻系统的方法，所述极紫外光刻系统包括具有激光器件的辐射源，所述激光器件配置有用于产生极紫外辐射的机构，所述方法包括： 以3维模式收集来自所述激光器件的激光束的激光束轮廓； 以所述3维模式收集由所述激光束产生的所述极紫外辐射的极紫外能量分布； 对所述激光束轮廓和所述极紫外能量分布实施分析，获得分析数据；以及 根据所述分析数据调节所述辐射源，以增强所述极紫外辐射。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人台湾积体电路制造股份有限公司，其通讯地址为：中国台湾新竹；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励