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龙图腾网获悉武汉轻工大学申请的专利一种利用氨基二氧化硅吸附去除3-MCPD的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116818969B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310709820.7，技术领域涉及：G01N30/14；该发明授权一种利用氨基二氧化硅吸附去除3-MCPD的方法是由方敏;徐婷;曾庆儒;王赵劼;柳鑫;宫智勇设计研发完成，并于2023-06-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种利用氨基二氧化硅吸附去除3-MCPD的方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种利用氨基二氧化硅吸附去除3‑MCPD的方法。本发明通过氨基二氧化硅对含有3‑MCPD的溶液进行吸附，将其混合后加入NaHCO3溶液调节pH值至7.0～9.0，置于60～100℃温度条件下反应2～10min，冷却至室温后，将混合液混匀离心去除氨基二氧化硅颗粒。本发明的优点在于氨基化修饰的二氧化硅是一种无机化工材料，为无定形白色粉末，具有无毒、无味、无污染特性，且简单易得、成本低廉，能够批量化生成，用氨基二氧化硅对3‑MCPD的吸附效率高，操作简单。

本发明授权一种利用氨基二氧化硅吸附去除3-MCPD的方法在权利要求书中公布了：1.一种利用氨基二氧化硅吸附去除3-MCPD的方法，其特征在于，所述方法具体步骤如下：将氨基二氧化硅加入含有3-MCPD的样品溶液中混合，所述氨基二氧化硅与样品溶液中3-MCPD含量的比例为：4～8mg：1.2～2.4ug；并加入NaHCO3溶液调节pH值至8.5，置于90℃温度条件下反应10min，冷却至室温后，将混合液混匀离心取上清液即为去除氨基二氧化硅的样品溶液；所述氨基二氧化硅是将SiO2纳米颗粒加入含有3-氨丙基三乙氧基硅烷的乙醇溶液中，在45℃～50℃条件下反应24h～48h，所述乙醇溶液中的3-氨丙基三乙氧基硅烷浓度为3%～6%；反应结束后，用蒸馏水和乙醇冲洗合成材料，去除未反应的3-氨丙基三乙氧基硅，并在真空环境下干燥22～26h，得到氨基二氧化硅颗粒； 所述含有3-MCPD的样品溶液为酱油；在进行3-MCPD去除前，先对酱油进行前处理，其处理过程如下：将成品酱油按照质量体积比2g:3mL的比例加入浓度5molL的NaCl溶液混合，上样固相萃取柱，先用己烷-乙醚混合溶液洗脱，然后改用乙醚洗脱，收集乙醚洗脱液并脱除溶剂，加水于离心管中振荡均匀即为酱油的样品检测溶液；其中所述己烷-乙醚混合溶液是按照体积比9:1的比例混合配制而成；酱油与己烷-乙醚混合溶液的质量体积比为1g:10mL；酱油与乙醚质量体积比为2g:75mL；酱油与水的质量体积比为1g:0.25mL。

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