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龙图腾网获悉东方晶源微电子科技(北京)股份有限公司申请的专利光阻项格点平移依赖性的分析方法、装置及计算机设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117078774B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310912186.7，技术领域涉及：G06T7/90；该发明授权光阻项格点平移依赖性的分析方法、装置及计算机设备是由郑惠锋;鲁李乐设计研发完成，并于2023-07-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本光阻项格点平移依赖性的分析方法、装置及计算机设备在说明书摘要公布了：本发明涉及集成电路技术领域，特别涉及一种光阻项格点平移依赖性的分析方法、装置及计算机设备。本发明提供的一种光阻项格点平移依赖性的分析方法，包括以下步骤：获取图形于光阻项组参数下模拟形成的图像；基于预设格栅设置采样点并获得图像内采样点的强度。基于采样点和强度建立初始强度分布曲线，并获得预设强度阈值下采样点对应的初始强度；基于预设平移量对预设格栅进行移动，并获得移动后的强度分布曲线；基于移动后的强度分布曲线获得该采样点对应的移动后强度；初始强度和移动后强度基于预设算法获得模拟线宽变化量以完成对光阻项格点平移依赖性的定量分析。寻求到了一种简便方法对格点平移依赖性进行分析。

本发明授权光阻项格点平移依赖性的分析方法、装置及计算机设备在权利要求书中公布了：1.一种光阻项格点平移依赖性的分析方法，用于对图形模拟成像过程中出现的格点平移依赖性进行定量分析，其特征在于：包括以下步骤： 获取图形于某一光阻项组参数下模拟形成的图像； 基于预设格栅设置采样点并获得图像内采样点的强度； 基于采样点和强度建立初始强度分布曲线，并获得预设强度阈值下采样点对应的初始强度； 基于预设平移量对预设格栅进行移动，并获得移动后的强度分布曲线； 基于移动后的强度分布曲线获得该采样点对应的移动后强度； 初始强度和移动后强度基于预设算法获得模拟线宽变化量以完成对整体光阻项格点平移依赖性的分析； 所述初始强度和移动后强度基于预设算法获得模拟线宽变化量的步骤包括： 基于初始强度分布曲线获得与预设强度阈值对应的两个采样点； 采样点于初始强度分布曲线上对应的强度为第一初始强度和第二初始强度； 采样于移动后的强度分布曲线上对应的强度为第一移动后强度和第二移动后强度； 基于第一初始强度和第一移动后强度获得第一差值，基于第二初始强度和第二移动后强度获得第二差值； 第一差值和第二差值基于预设算法获得模拟线宽变化量； 获取每个单一光阻项参数所对应的模拟线宽变化量进一步包括： 基于预设模型计算获得每个单一光阻项参数的贡献值； 基于光阻项组参数所对应的模拟线宽变化量获取光阻项组参数的贡献值； 比较单一光阻项参数的贡献值和光阻项组参数的贡献值以获取单一光阻项参数对整体格点平移依赖性的贡献关系。

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