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龙图腾网获悉上海精测半导体技术有限公司申请的专利一种CD-SEM设备的定位方法和测量方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117392360B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311434083.0，技术领域涉及：G06V10/22；该发明授权一种CD-SEM设备的定位方法和测量方法是由刘骊松;王岗;黄涛;张旭设计研发完成，并于2023-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种CD-SEM设备的定位方法和测量方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种CD‑SEM设备的定位方法和测量方法，用于定位晶圆上的测量点，包括：在创建工作菜单时，使用工作图像确定预设的所有测量点的位置，并确定对应的定位点的位置，在定位点的位置以第一放大倍率采集第一模板图像并选取第一模板，还以第二放大倍率采集第二模板图像；在执行工作菜单时，遍历各测量点，在对应的定位点的位置以第一放大倍率采集目标图像，基于第一模板与目标图像模板匹配，当匹配成功时，确定测量点的位置，当匹配失败时，降采样目标图像得到具有第二放大倍率的降采样图像，基于降采样图像与第二模板图像模板匹配，以确定测量点的位置。该定位方法和测量方法的可靠性高，能够节省时间，且能提升设备的吞吐量。

本发明授权一种CD-SEM设备的定位方法和测量方法在权利要求书中公布了：1.一种CD-SEM设备的定位方法，用于定位晶圆上的测量点MP，其特征在于，包括： 在创建所述设备的工作菜单时，获取在晶圆上预设的所有测量点MP，在所述晶圆上采集用于确定所有所述测量点MP的位置及对应的定位点AP的位置的工作图像，使用所述工作图像确定各所述测量点MP的位置，并确定各所述测量点MP所需的所述定位点AP的位置，在所述定位点AP的位置以第一放大倍率LM1采集第一模板图像并在其中选取第一模板，设置小于所述第一放大倍率LM1的第二放大倍率LM2，在所述定位点AP的位置还以所述第二放大倍率LM2采集第二模板图像，保存所述测量点MP的位置、定位点AP的位置、第一模板图像、第一模板和第二模板图像到工作菜单中； 在执行所述设备的工作菜单时，遍历各所述测量点MP，在各所述测量点MP对应的所述定位点AP的位置以第一放大倍率LM1采集第一目标图像，基于所述第一模板与第一目标图像进行模板匹配，当匹配成功时，确定所述定位点AP的位置和与其对应的测量点MP的位置，当匹配失败时，降采样所述第一目标图像得到降采样图像，使得所述降采样图像的放大倍率为所述第二放大倍率LM2，将所述降采样图像作为模板且与第二模板图像进行模板匹配，以确定所述定位点AP的位置和与其对应的测量点MP的位置。

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