湖北兴福电子材料股份有限公司叶瑞获国家专利权
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龙图腾网获悉湖北兴福电子材料股份有限公司申请的专利一种抑制铝的缓冲氧化物蚀刻液及应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117417748B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311180644.9，技术领域涉及：C09K13/08；该发明授权一种抑制铝的缓冲氧化物蚀刻液及应用是由叶瑞;许真;张庭;贺兆波;李金航;武昊冉;董攀飞;徐子豪;王巍设计研发完成，并于2023-09-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种抑制铝的缓冲氧化物蚀刻液及应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种抑制铝的缓冲氧化物蚀刻液及应用，该蚀刻液主要成分为氢氟酸、氟化铵、有机酸、表面活性剂以及超纯水。本发明的蚀刻液用于氧化硅薄膜的蚀刻，并可抑制铝层蚀刻；有机酸可加快氧化硅蚀刻速率，并形成有机酸‑铝膜保护铝表面不被进一步蚀刻；表面活性剂可与铝表面的氧化铝反应产生化学吸附，从而抑制铝表面的腐蚀；本发明所述的蚀刻液对氧化硅层和铝层具有高选择性，蚀刻速率选择比≥37。本发明所述的蚀刻液可调整各组分含量，以满足不同制程中的氧化硅层对铝层的蚀刻选择比要求。
本发明授权一种抑制铝的缓冲氧化物蚀刻液及应用在权利要求书中公布了：1.一种抑制铝的缓冲氧化物蚀刻液，其特征在于：由以下质量份原料组成：3%-12%的氢氟酸、15%-25%的氟化铵、15%-35%的有机酸、0.005%-0.05%的表面活性剂，余量为超纯水；所述有机酸为柠檬酸或冰醋酸；所述表面活性剂为酰胺类表面活性剂；所述酰胺类表面活性剂为四氢-3-呋喃羧酰胺、琥珀酰胺、环丙酰胺、巴豆酰胺、扁桃酰胺的任意一种。
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