张淼雷;金进;戴国新获国家专利权
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龙图腾网获悉张淼雷;金进;戴国新申请的专利用于臭氧发生单元的流体分布结构获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118894497B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310518126.7，技术领域涉及：C01B13/11；该发明授权用于臭氧发生单元的流体分布结构是由张淼雷;金进;戴国新设计研发完成，并于2023-05-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于臭氧发生单元的流体分布结构在说明书摘要公布了：本申请公开一种用于臭氧发生单元的流体分布结构，包括单件式本体，所述地电极还包括在单件式本体的第一表面形成的反应区和在第二表面形成的敞开的第一气路流道、第二气路流道和冷却流道，所述冷却流道为在第二表面中延伸的曲折流道；所述地电极包括位于反应区中横向延伸的多个平面凹槽和位于各平面凹槽的包络内的进气微孔和出气孔，所述进气微孔临近所述第一端设置，所述出气孔临近所述第二端设置；所述单件式本体还包括位于所述反应区之外的进气通孔、排气通孔、进流通孔和排流通孔。
本发明授权用于臭氧发生单元的流体分布结构在权利要求书中公布了：1.一种地电极，其特征在于，包括单件式本体，所述地电极还包括在单件式本体的第一表面形成的反应区和在第二表面形成的敞开的第一气路流道、第二气路流道和冷却流道，所述冷却流道为在第二表面中延伸的曲折流道； 所述地电极包括位于反应区中横向延伸的多个平面凹槽和位于各平面凹槽的包络内的进气微孔和出气孔，所述进气微孔临近所述平面凹槽的第一端设置，所述出气孔临近所述平面凹槽的第二端设置，其中，所述出气孔的孔径大于所述进气微孔的孔径； 所述单件式本体还包括位于所述反应区之外的进气通孔、排气通孔、进流通孔和排流通孔； 其中，所述第一气路流道与所述进气通孔正交，所述第二气路流道与排气通孔正交，冷却流道一端与进流通孔正交，另一端与排流通孔正交，进气微孔连通所述第一气路流道和相应的平面凹槽，出气孔连通相应的平面凹槽和所述第二气路流道， 由此，所述进气通孔、第一气路流道、各进气微孔、各平面凹槽、各出气孔、第二气路流道和排气通孔依次形成了所述地电极的气流分布结构；所述进流通孔、曲折的冷却流道和所述排流通孔依次形成了所述地电极的冷却流分布结构。
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