京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司余华喜获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利一种冷却装置及工艺设备、基板制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119436730B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411570030.6，技术领域涉及：F25D31/00；该发明授权一种冷却装置及工艺设备、基板制造方法是由余华喜;康世磊;陆忠;袁娜娜;倪水滨;李儒健;王近东设计研发完成，并于2024-11-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种冷却装置及工艺设备、基板制造方法在说明书摘要公布了：本公开提供了一种冷却装置及工艺设备、基板制造方法，冷却装置用于冷却工艺设备排放的气体；冷却装置包括沿着气体排放方向依次设置在工艺设备的排气管路上的预冷却单元和二次冷却单元；预冷却单元具有进气端和排气端，预冷却单元包括设置在进气端和排气端之间的至少一个冷却组，预冷却单元被配置为用于将气体冷却至第一温度，第一温度大于气体发生固化的凝华点；二次冷却单元包括内径大于或等于阈值的至少一根冷却管及设于冷却管外壁的冷却组件，冷却管连通至排气端，二次冷却单元被配置为用于将气体冷却至第二温度，第二温度小于第一温度。本公开提供的冷却装置及工艺设备、基板制造方法，可以实现对工艺气体两步冷却，减少排气管堵塞等现象。
本发明授权一种冷却装置及工艺设备、基板制造方法在权利要求书中公布了：1.一种冷却装置，用于冷却工艺设备排放的气体；其特征在于，所述冷却装置用于制造显示基板的膜层，所述冷却装置包括沿着气体排放方向依次设置在所述工艺设备的排气管路上的预冷却单元和二次冷却单元；其中， 所述预冷却单元具有进气端和排气端，所述预冷却单元包括设置在所述进气端和所述排气端之间的至少一个冷却组，所述预冷却单元被配置为用于将气体冷却至第一温度，所述第一温度大于所述气体发生固化的凝华点； 所述二次冷却单元包括内径大于或等于阈值的至少一根冷却管及设于所述冷却管外壁的冷却组件，所述冷却管连通至所述排气端，所述二次冷却单元被配置为用于将气体冷却至第二温度，所述第二温度小于所述第一温度。
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