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龙图腾网获悉熙腾电子科技(上海)有限公司申请的专利一种金属蚀刻液的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119465151B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411660290.2，技术领域涉及：C23F1/16；该发明授权一种金属蚀刻液的制备方法是由孙凤龙设计研发完成，并于2024-11-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种金属蚀刻液的制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种金属蚀刻液的制备方法，属于半导体元件加工技术领域。本发明通过氧化剂、草酸盐、氨基羧酸、亚磷酸螯合剂、聚氧丙烯聚氧乙烯醚、防腐蚀剂、稳定剂、无机碱、水，搅拌混合均匀后，得到金属蚀刻液。本发明的稳定剂采用巯基苯骈噻唑、硝酸铜、DMF，于30‑40℃反应；再加入马来酸三乙醇胺双酯，八乙烯基八硅倍半氧烷、三乙醇胺，于60‑70℃反应，经减压蒸馏除去DMF后得到；巯基苯并噻唑通过在金属表面形成一层保护膜来实现，防止金属被进一步腐蚀；倍半硅氧烷的加入，由于其特殊的化学结构，可在金属表面形成特定的抑菌层，进一步增强了蚀刻液的抑菌性能。

本发明授权一种金属蚀刻液的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种金属蚀刻液的制备方法，其操作步骤为： S1：将1-5份氧化剂、20-30份水，搅拌混合均匀； S2：加入1-5份草酸盐、5-10份氨基羧酸、50-70份水，搅拌混合均匀； S3：继续加入0.5-1.5份亚磷酸螯合剂、0.01-0.5份表面活性剂聚氧丙烯聚氧乙烯醚、0.08-1份防腐蚀剂、0.002-0.05份稳定剂、0.2-2.5份无机碱，搅拌混合均匀，得到金属蚀刻液； 所述的稳定剂由巯基苯骈噻唑铜配合物与马来酸三乙醇胺双酯、八乙烯基八硅倍半氧烷反应制得；所述的稳定剂的制备方法为： A1：按重量份，将5-10份巯基苯骈噻唑、4-7份硝酸铜、100-130份DMF进行混合，于30-40℃反应60-100分钟； A2：再加入2-5份马来酸三乙醇胺双酯，5-10份八乙烯基八硅倍半氧烷、3-6份三乙醇胺，于60-70℃反应100-130分钟，经减压蒸馏除去DMF，真空干燥，得到稳定剂； 所述的马来酸三乙醇胺双酯的制备方法为： 按质量份，将14-22份马来酸酐与31-53份三乙醇胺混合后加入反应器，并向反应器中加入1-4份的醋酸，在60℃-70℃下反应100-130分钟，得到马来酸三乙醇胺双酯。

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