浙江创芯集成电路有限公司李光照获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江创芯集成电路有限公司申请的专利晶圆研磨装置以及晶圆研磨设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119609909B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411073640.5，技术领域涉及：B24B37/10；该发明授权晶圆研磨装置以及晶圆研磨设备是由李光照;陈慧新;张一帆设计研发完成，并于2024-08-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶圆研磨装置以及晶圆研磨设备在说明书摘要公布了：本发明实施例提供了晶圆研磨装置以及晶圆研磨设备，所述晶圆研磨装置包括：研磨盘、研磨围板和清洁组件；研磨盘用于放置待研磨晶圆；研磨围板环绕在研磨盘外围，在俯视角度下，研磨盘的投影位于研磨围板的投影环绕的区域内，其中，以研磨盘的投影区域作为研磨区域，研磨围板的投影环绕区域用于将待研磨晶圆的研磨液限制在研磨区域内；清洁组件固定于研磨围板朝向研磨盘一侧，且清洁组件延研磨围板朝向研磨盘的法线方向的距离小于或等于，研磨围板至研磨盘之间的距离，用于清洁研磨盘周围溢出的研磨液，从而能够及时清洁研磨盘周围溢出的研磨液，降低了研磨盘的清洁难度，进而提高产品良率。
本发明授权晶圆研磨装置以及晶圆研磨设备在权利要求书中公布了：1.一种晶圆研磨装置，其特征在于，应用于晶圆研磨设备，包括：研磨盘、研磨围板和清洁组件； 所述研磨盘用于放置待研磨晶圆； 所述研磨围板环绕在所述研磨盘外围，在俯视角度下，所述研磨盘的投影位于所述研磨围板的投影环绕的区域内，其中，以所述研磨盘的投影区域作为研磨区域，所述研磨围板的投影环绕区域用于将待研磨晶圆的研磨液限制在所述研磨区域内； 所述清洁组件固定于所述研磨围板朝向所述研磨盘一侧，且所述清洁组件延所述研磨围板朝向所述研磨盘的法线方向的距离小于或等于，所述研磨围板至所述研磨盘之间的距离，用于清洁所述研磨盘周围溢出的研磨液； 其中，所述清洁组件包括清洁部件和卡合部件，所述清洁部件基于所述卡合部件卡合，所述卡合部件包括卡槽，所述清洁部件凸出于所述卡槽，并与所述研磨盘相接触。
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