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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司;北京京东方技术开发有限公司申请的专利显示基板及其制备方法、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119816125B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510045286.3，技术领域涉及：H10K59/122；该发明授权显示基板及其制备方法、显示装置是由于天成设计研发完成，并于2025-01-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本显示基板及其制备方法、显示装置在说明书摘要公布了：本公开提供一种显示基板及其制备方法、显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的显示基板存在串扰不良以及隔断结构制备工艺复杂的问题。本公开的显示基板包括：衬底基板；第一电极层，包括各发光器件的第一电极；像素界定层，具有多个像素开口；发光功能层，包括各发光器件的发光功能部；多个隔断结构，被配置为使得发光功能层中的至少部分子功能层在像素开口边缘所对应的位置断开；隔断结构包括第一子结构和第二子结构，分别采用第一导电材料和第二导电材料；第二导电材料包括由第一导电材料与第一溶液发生置换反应得到的材料，且第一溶液中的溶质包括第二导电材料离子的化合物。本公开的显示基板制备工艺简单且具有良好的防串扰效果。

本发明授权显示基板及其制备方法、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示基板，其包括： 衬底基板； 第一电极层，设置在所述衬底基板上，所述第一电极层包括各发光器件的第一电极； 像素界定层，设置在所述第一电极层背离所述衬底基板的一侧，所述像素界定层具有沿其厚度方向贯穿的多个像素开口； 发光功能层，设置在所述像素界定层背离所述衬底基板的一侧，所述发光功能层包括各所述发光器件的发光功能部；一个所述像素开口与一个所述发光器件的所述第一电极和所述发光功能部两者在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠； 多个隔断结构，设置在所述第一电极层背离所述衬底基板的一侧，且所述隔断结构被配置为使得所述发光功能层中的至少部分子功能层，在所述像素开口边缘所对应的位置断开；其中， 所述隔断结构包括第一子结构和包裹所述第一子结构的第二子结构；所述第一子结构和所述第二子结构的材料分别为第一导电材料和第二导电材料；所述第二导电材料包括由所述第一导电材料与第一溶液发生置换反应得到的材料，且所述第一溶液中的溶质包括所述第二导电材料离子的化合物。

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