东莞市万玖电子材料有限公司李俊获国家专利权
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龙图腾网获悉东莞市万玖电子材料有限公司申请的专利一种高硬度、耐刮擦增透膜及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120006213B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202510156053.0,技术领域涉及:C23C14/06;该发明授权一种高硬度、耐刮擦增透膜及其制备方法是由李俊;李志华;付涛;李二壮设计研发完成,并于2025-02-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高硬度、耐刮擦增透膜及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明提供了一种高硬度、耐刮擦增透膜及其制备方法,包括基体、金属铝过渡层、Ta2O5内DLCAlOxNy交替层、外DLC层;其中交替层数为10~20,其中金属铝过渡层厚度为100~120nm、Ta2O5层厚度为40~50nm、AlOxNy层厚度为50~60nm、内DLC层厚度为20~30nm、外DLC层厚度为80~90nm;增透膜在2~16μm范围内平均透光率大于98.6%、折射率为1.37~1.41、纳米硬度为35~45GPa。采用多功能离子镀膜设备,根据膜层的性质控制不同的工艺条件连续、依次的完成各层的制备。制备得到的增透膜具有优异的透光性、较低的折射率,并且硬度和耐刮擦性能也得到显著提升,可大大提高电子设备的使用寿命。
本发明授权一种高硬度、耐刮擦增透膜及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种高硬度、耐刮擦增透膜,其特征在于,包括基体、金属铝过渡层、Ta2O5内DLCAlOxNy交替层、外DLC层;其中交替层数为10~20,其中金属铝过渡层厚度为100~120nm、Ta2O5层厚度为40~50nm、AlOxNy层厚度为50~60nm、内DLC层厚度为20~30nm、外DLC层厚度为80~90nm; 所述AlOxNy层由高功率脉冲磁控溅射制备,其中工艺参数为:氧气流量为50~60sccm、氮气流量为50~60sccm、氩气流量为70~90sccm、基体偏压为100~120V、铝靶材电流为20~25A、电压为300~350V、沉积时间为15~20min。
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