京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司胡合合获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司申请的专利阵列基板及显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120077325B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202380011016.X，技术领域涉及：G02F1/1362；该发明授权阵列基板及显示装置是由胡合合;姚念琦;赵坤;郭晖;宁策;李正亮;贺家煜;刘凤娟;刘威;李菲菲;袁广才设计研发完成，并于2023-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本阵列基板及显示装置在说明书摘要公布了：一种阵列基板及显示装置。阵列基板包括衬底13以及依次层叠设置于所述衬底13一侧的第一导电层、第二导电层、第三导电层以及第四导电层；所述第四导电层包括公共电极21，所述第四导电层的材料为透明导电氧化物材料，所述第三导电层的材料为金属导电材料，且所述第三导电层远离所述衬底13一侧的至少部分表面与所述第四导电层靠近所述衬底13一侧的至少部分表面接触。
本发明授权阵列基板及显示装置在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板，包括衬底以及依次层叠设置于所述衬底一侧的第一导电层、第二导电层、第三导电层以及第四导电层；所述第四导电层包括公共电极，所述第四导电层的材料为透明导电氧化物材料，所述第三导电层的材料为金属导电材料，且所述第三导电层远离所述衬底一侧的至少部分表面与所述第四导电层靠近所述衬底一侧的至少部分表面接触； 所述第三导电层包括至少一条沿第一方向延伸的信号线，或者，所述第三导电层包括至少一条沿第二方向延伸的信号线，所述第一方向与所述第二方向交叉；所述至少一条信号线远离所述衬底一侧的至少部分表面与所述公共电极靠近所述衬底一侧的至少部分表面接触。
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