晟禧科技(威海)有限公司范德猛获国家专利权
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龙图腾网获悉晟禧科技(威海)有限公司申请的专利一种硅片预处理清洗机获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120727620B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510893604.1，技术领域涉及：H10P72/00；该发明授权一种硅片预处理清洗机是由范德猛;李燕设计研发完成，并于2025-06-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种硅片预处理清洗机在说明书摘要公布了：本发明属于硅片清洗设备技术领域，具体为一种硅片预处理清洗机，包括清洗槽、放置支架和放置支架上的多个硅片本体，清洗槽上架设有翻转机构，翻转机构可驱动清洗结构平移和转动，清洗结构包括多个驱动装置和冲洗装置。本发明实现了对等间距分布的硅片同时进行清洗，先后利用两种反向流动的涡流，以流体方向的动态变化来增强剪切力，水流方向的切换会产生交替的剪切力，对硅片表面的颗粒、有机物或金属离子等污染物产生“双向剥离”效果，对于带沟槽的硅片，涡流产生的切向力会破坏沟槽表面的张力平衡，且切换流向可使水流在沟槽内部进行往复运动，更有效地将沟槽深处的杂质推出。
本发明授权一种硅片预处理清洗机在权利要求书中公布了：1.一种硅片预处理清洗机，包括清洗槽1、放置支架2和放置支架上2的多个硅片本体3，放置支架2位于清洗槽1内，所述清洗槽1上架设有翻转机构4，所述翻转机构4可驱动清洗结构平移和转动，其特征在于，所述清洗结构包括多个驱动装置5和冲洗装置6，每一个驱动装置5和一个冲洗装置6为一组，每组等间隔分布在相邻两个硅片本体3之间，每个所述冲洗装置6均包括罩体61、调节盘62和盖体63，盖体63将调节盘62压在罩体61上，所述盖体63上按照径向由内及外依次设置有第一喷嘴64、第二喷嘴65和第三喷嘴66，且三种喷嘴等间距环绕分布，第一喷嘴64和第三喷嘴66朝向相同，偏向盖体63外缘，第二喷嘴65则偏向圆心一侧。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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