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龙图腾网获悉华芯程(杭州)科技有限公司申请的专利一种光源掩膜协同优化方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121209222B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511783268.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种光源掩膜协同优化方法及装置是由陈敖设计研发完成，并于2025-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光源掩膜协同优化方法及装置在说明书摘要公布了：本发明涉及集成电路制造领域，特别是涉及一种光源掩膜协同优化方法及装置，获取初始光源与初始掩膜图案；所述初始掩膜图案为二值化的图像；确定所述光源掩膜协同优化损失函数的函数值最小时对应的调整过的初始光源与调整过的初始掩膜图案为优化光源与优化掩膜图案；所述光源掩膜协同优化损失函数包括主要图形边缘误差项与亚分辨率辅助图形印出项；得到仿真光刻图像，并判断所述仿真光刻图像中是否有亚分辨率辅助图形印出；当存在被印出的亚分辨率辅助图形时，输出最新的优化掩膜图案为工艺迭代掩膜图案；计算比例值；当比例值不超过所述合格上限值时，输出优化光源与工艺迭代掩膜图案。本发明能确保没有亚分辨率辅助图形印出且保留较大工艺窗口。

本发明授权一种光源掩膜协同优化方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种光源掩膜协同优化方法，其特征在于，包括： 接收光刻目标图案； 将所述光刻目标图案栅格化，得到光刻目标图像； 根据所述光刻目标图像，获取初始光源与初始掩膜图案；所述初始掩膜图案为二值化的图像； 基于所述光刻目标图像，利用预设的光源掩膜协同优化损失函数，对所述初始光源与所述初始掩膜图案进行迭代优化，确定所述光源掩膜协同优化损失函数的函数值最小时对应的调整过的初始光源与调整过的初始掩膜图案为优化光源与优化掩膜图案；所述光源掩膜协同优化损失函数包括主要图形边缘误差项与亚分辨率辅助图形印出项； 根据所述优化光源与所述优化掩膜图案计算第一工艺窗口； 在所述优化光源下，对所述优化掩膜图案进行仿真，得到仿真光刻图像，并判断所述仿真光刻图像中是否有亚分辨率辅助图形印出；当存在被印出的亚分辨率辅助图形时，将被印出的亚分辨率辅助图形在所述优化掩膜图案中对应的图形的尺寸缩小，得到更新后的优化掩膜图案，再对更新后的优化掩膜图案进行仿真，直至所述优化掩膜图案对应的仿真光刻图像中没有所述亚分辨率辅助图形印出，输出最新的优化掩膜图案为工艺迭代掩膜图案； 根据所述优化光源与所述工艺迭代掩膜图案计算第二工艺窗口； 计算所述第一工艺窗口与所述第二工艺窗口的差值占所述第一工艺窗口的比例值，并判断所述比例值是否超过预设的合格上限值； 当所述比例值不超过所述合格上限值时，输出所述优化光源与所述工艺迭代掩膜图案； 所述光源掩膜协同优化损失函数为所述主要图形边缘误差项与所述亚分辨率辅助图形印出项的和；所述亚分辨率辅助图形印出项包括亚分辨率权重系数； 在判断所述比例值是否超过预设的合格上限值之后，还包括： 当所述比例值超过所述合格上限值时，增加所述亚分辨率权重系数，得到更新后的光源掩膜协同优化损失函数； 基于所述光刻目标图像，利用更新后的光源掩膜协同优化损失函数，对所述初始光源与所述初始掩膜图案进行迭代优化，得到更新的优化光源与更新的优化掩膜图案，并计算对应的第一工艺窗口、对应的工艺迭代掩膜图案、对应的第二工艺窗口以及对应的比例值，再判断更新后的比例值是否超过预设的合格上限值，当更新后的比例值超过所述合格上限值时，增加所述亚分辨率权重系数，得到更新后的光源掩膜协同优化损失函数，直至所述比例值不超过所述合格上限值。

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