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中国工程物理研究院应用电子学研究所彭琛获国家专利权

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龙图腾网获悉中国工程物理研究院应用电子学研究所申请的专利一种径向偏振分光超表面及其同步移相方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121232344B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511793630.3,技术领域涉及:G02B5/30;该发明授权一种径向偏振分光超表面及其同步移相方法是由彭琛;李光祥;周文超;魏蔚;邓婷;常艳设计研发完成,并于2025-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。

一种径向偏振分光超表面及其同步移相方法在说明书摘要公布了:本发明提供了一种径向偏振分光超表面及其同步移相方法,涉及光学器件技术领域,包括基底;设置在基底上的表面结构,表面结构由多个亚波长结构单元按环形排布方式构成;其中,同一环形上的亚波长结构单元具有相同的旋转角度,不同环形上的亚波长结构单元的旋转角度随环形半径发生变化,从而能够对入射线偏振光的左旋圆偏振光和右旋圆偏振光分别产生不同的相位调制,以使左旋圆偏振光或右旋圆偏振光形成发散光束,而另一束则形成汇聚光束。本发明通过独特的环形排布且旋转角度随半径变化的亚波长结构单元,能够对入射线偏振光的左旋与右旋分量分别施加不同的相位调制,高效地生成偏振态正交的发散与汇聚光束,为基于偏振移相的动态测量奠定了基础。

本发明授权一种径向偏振分光超表面及其同步移相方法在权利要求书中公布了:1.一种径向偏振分光超表面,包括基底1,其特征在于,还包括: 设置在所述基底1上的表面结构2,所述表面结构2由多个亚波长结构单元3按环形排布方式构成; 其中,同一环形上的亚波长结构单元3具有相同的旋转角度,不同环形上的亚波长结构单元3的旋转角度随环形半径发生变化,从而能够对入射线偏振光的左旋圆偏振光和右旋圆偏振光分别产生不同的相位调制,以使左旋圆偏振光或右旋圆偏振光形成发散光束,而另一束则形成汇聚光束; 所述亚波长结构单元3的旋转角度通过如下公式计算: ; 其中,r表示亚波长结构单元3的旋转半径,即环形半径,表示亚波长结构单元3的旋转角度,表示入射线偏振光的波长,表示所述汇聚光束或发散光束的焦距; 所述对入射线偏振光的左旋圆偏振光和右旋圆偏振光分别产生不同的相位调制,包括: 通过将不同环形上的亚波长结构单元3沿顺时针方向旋转角度时,能够对左旋圆偏振光产生+2θ的相位调制,同时对右旋圆偏振光产生-2θ的相位调制; 或者,通过将不同环形上的亚波长结构单元3沿逆时针方向旋转角度时,对右旋圆偏振光产生+2θ的相位调制,同时对左旋圆偏振光产生-2θ的相位调制。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人中国工程物理研究院应用电子学研究所,其通讯地址为:621900 四川省绵阳市游仙区绵山路64号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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