全芯智造技术股份有限公司杲皓冉获国家专利权
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龙图腾网获悉全芯智造技术股份有限公司申请的专利用于光刻信号模拟的方法、设备和存储介质获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN121364610B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511942781.0,技术领域涉及:G03F7/20;该发明授权用于光刻信号模拟的方法、设备和存储介质是由杲皓冉;施忞设计研发完成,并于2025-12-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于光刻信号模拟的方法、设备和存储介质在说明书摘要公布了:根据本公开的实施例,提供了用于光刻信号模拟的方法、设备和存储介质。该方法包括:确定针对具有至少一个突出结构的基板的模拟光信号,模拟光信号指示光经过掩模后在基板上形成的信号;确定针对基板的拓扑信号,拓扑信号与至少一个突出结构相关联;以及基于模拟光信号和拓扑信号,确定针对基板的光刻信号。由此,可以考虑到至少一个突出结构与光刻胶的堆叠对在基板上的信号的影响,这有助于提高光刻信号的准确性。
本发明授权用于光刻信号模拟的方法、设备和存储介质在权利要求书中公布了:1.一种光刻信号模拟方法,其特征在于,包括: 确定针对具有至少一个突出结构的基板的模拟光信号,所述模拟光信号指示光经过掩模后在所述基板上形成的信号; 确定针对所述基板的拓扑信号,所述拓扑信号与所述至少一个突出结构相关联,所述拓扑信号至少指示所述至少一个突出结构与光刻胶的堆叠对所述基板上形成的所述信号的影响;以及 基于所述模拟光信号和所述拓扑信号,确定针对所述基板的光刻信号。
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