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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利线扫系统快速校准装置及其校准方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121384963B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511946880.6，技术领域涉及：G01N21/93；该发明授权线扫系统快速校准装置及其校准方法是由韦敏;李一越;朱云龙设计研发完成，并于2025-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本线扫系统快速校准装置及其校准方法在说明书摘要公布了：本发明涉及工业视觉检测技术领域，尤其涉及一种线扫系统快速校准装置及其校准方法，包括相机和调节机构，还包括安装座、线激光发射器、激光接收传感器、编码光楔、复合靶标以及用于驱动复合靶标进行升降的升降机构，升降机构和编码光楔均固定于安装座上，相机设置于编码光楔的上方，通过分别对编码光楔和复合靶标进行静态观测，分别实现快速定焦和精密姿态校准，校准过程高效快捷，而且降低机械磨损与维护成本，显著缩短校准时间，将编码光楔与复合靶标一体化集成，提高使用灵活性，调节机构基于静态观测计算出来的偏差数据调整相机的空间姿态，提高自动化程度且提高校准精度。

本发明授权线扫系统快速校准装置及其校准方法在权利要求书中公布了：1.一种线扫系统快速校准装置，包括相机2以及用于调整所述相机2空间姿态的调节机构12，其特征在于：还包括安装座13、线激光发射器1、激光接收传感器3、编码光楔4、复合靶标8以及用于驱动所述复合靶标8进行升降的升降机构7，所述升降机构7和编码光楔4均固定于安装座13上，所述相机2设置于编码光楔4的上方，所述线激光发射器1对称设置于编码光楔4的两侧，所述激光接收传感器3对称设置于相机2的两侧，所述编码光楔4的顶面呈倾斜设置，且其顶面设有编码带5，所述编码带5沿倾斜方向均匀排列有若干个，每个所述编码带5处于不同的高度位置且具有唯一的二进制编码图案，所述复合靶标8包括基板14、角度标定刻线组9、中心基准刻线11、第一凸起10和第二凸起15，所述角度标定刻线组9、中心基准刻线11、第一凸起10和第二凸起15均设置于基板14的上侧，所述第一凸起10和第二凸起15对称设置于中心基准刻线11的两侧，所述第一凸起10的高度高于第二凸起15，所述第一凸起10的顶面设有第一斜面16，所述第二凸起15的顶面设有第二斜面17，所述第一斜面16与第二斜面17的倾斜角度相同，所述第一斜面16和第二斜面17上均设有斜面刻线。

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