上海积塔半导体有限公司刘畅获国家专利权
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龙图腾网获悉上海积塔半导体有限公司申请的专利一种样品平磨控制系统获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224027293U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520184748.5，技术领域涉及：B24B37/04；该实用新型一种样品平磨控制系统是由刘畅;周山;罗俊一设计研发完成，并于2025-02-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种样品平磨控制系统在说明书摘要公布了：本实用新型涉及芯片样品分析的技术领域，特别是涉及一种样品平磨控制系统，通过设置初始平面标定模块，可以利用初始平面标定模块对样品研磨表面进行初始调平，以利于后续工艺操作。同时，设置调节模块和压力监测与反馈模块，在样品研磨过程中可以实现对样品研磨表面的调平以及压力监测，从而使得样品去层更加均匀。另外，设置终点检测模块，当终点检测模块检测到样品去层到位时，停止对样品的研磨，可以防止样品研磨过度或者去层不足。综上所述，通过设置初始平面标定模块、调节模块、压力监测与反馈模块以及终点检测模块，可以提高样品膜层去除的精确度，进而满足生产需求。
本实用新型一种样品平磨控制系统在权利要求书中公布了：1.一种样品平磨控制系统，其特征在于，所述控制系统包括控制模块、安装固定模块、初始平面标定模块、调节模块、抛光模块、旋转模块、压力监测与反馈模块以及终点检测模块，所述初始平面标定模块、所述调节模块、所述旋转模块、所述抛光模块、所述压力监测与反馈模块和所述终点检测模块均与所述控制模块电性连接，所述调节模块与所述旋转模块连接，所述安装固定模块与所述调节模块连接； 所述安装固定模块用于对样品进行固定，所述初始平面标定模块用于对样品研磨表面进行初始调平，所述调节模块用于调节样品研磨表面不同区域的倾斜度及压力，所述抛光模块用于对样品研磨表面进行平磨，所述旋转模块用于使所述调节模块在所述初始平面标定模块和所述抛光模块之间切换，所述压力监测与反馈模块用于监测样品研磨表面不同区域的压力，并将压力分布情况反馈给所述控制模块，所述终点检测模块用于检测样品去层是否到位。
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