深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司彭令理获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司申请的专利靶材输送装置及RPD真空镀膜设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224031079U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520522492.4，技术领域涉及：C23C14/22；该实用新型靶材输送装置及RPD真空镀膜设备是由彭令理;葛光星;陈麒麟;左忠祥设计研发完成，并于2025-03-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本靶材输送装置及RPD真空镀膜设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种靶材输送装置及RPD真空镀膜设备，包括：供靶机构，其内设有密闭腔室及位于密闭腔室下方并与其相通的第一进靶通道，第一进靶通道的进出口均呈倒角结构；供靶机构用于将靶材送入RPD真空镀膜设备的炉膛；第一顶靶机构，其用于将进料口的靶材沿第一进靶通道匹配推送至供靶机构；密闭腔室的底部对应第一进靶通道匹配设有支撑块，且支撑块位于第一进靶通道朝向靶材的相反旋转方向的一侧；支撑块用于将靶材抬升至预定高度。本实用新型能通过支撑块来保证待下料的靶材底面高于第一顶靶机构的顶升端，避免靶材在下料时发生卡住的情况，从而保证整机的镀膜效率和镀膜效果，降低时间和人工成本。
本实用新型靶材输送装置及RPD真空镀膜设备在权利要求书中公布了：1.一种靶材输送装置，其特征在于，包括： 供靶机构10，所述供靶机构10内设有密闭腔室103及位于所述密闭腔室103下方并与其相通的第一进靶通道101；所述供靶机构10用于将靶材40送入RPD真空镀膜设备的炉膛； 第一顶靶机构20，所述第一顶靶机构20用于将进料口的靶材40沿所述第一进靶通道101匹配推送至所述供靶机构10； 所述密闭腔室103的底部对应所述第一进靶通道101匹配设有支撑块110，且所述支撑块110位于所述第一进靶通道101朝向所述靶材40的相反旋转方向的一侧；所述支撑块110用于将所述靶材40抬升至预定高度。
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