上海新微半导体有限公司管延娇获国家专利权
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龙图腾网获悉上海新微半导体有限公司申请的专利小发散角抗反射激光器获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN224036833U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-24发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202520566374.3,技术领域涉及:H01S5/10;该实用新型小发散角抗反射激光器是由管延娇;徐超;宋国伟设计研发完成,并于2025-03-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本小发散角抗反射激光器在说明书摘要公布了:本实用新型提供一种小发散角抗反射激光器,包括:衬底;形成于衬底上的有源区;位于有源区出光端面的蚀刻区,蚀刻区包括发散角改善层;包层,包层沿有源区的出光方向延伸设置;金属接触层,覆盖有源区上方的包层;隔离层,覆盖蚀刻区上方的包层;以及,N‑金属层和P‑金属层,N‑金属层覆盖衬底的背面,P‑金属层覆盖金属接触层和隔离层。通过所述隔离层的设置,可以限制电流注入端面,降低端面的出光功率密度,抑制非辐射复合过程,使得端面温度在此区域降低,因此可以减小光学灾变损伤,延长激光器寿命。
本实用新型小发散角抗反射激光器在权利要求书中公布了:1.一种小发散角抗反射激光器,其特征在于,包括: 衬底; 形成于所述衬底上的有源区; 位于所述有源区出光端面的蚀刻区,所述蚀刻区包括发散角改善层; 包层,所述包层沿所述有源区的出光方向延伸设置; 金属接触层,覆盖所述有源区上方的所述包层; 隔离层,覆盖所述蚀刻区上方的所述包层;以及, N-金属层和P-金属层,所述N-金属层覆盖所述衬底的背面,所述P-金属层覆盖所述金属接触层和所述隔离层。
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