深圳市矩阵多元科技有限公司张晓军获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市矩阵多元科技有限公司申请的专利单晶外延薄膜激光脉冲镀膜装置及制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115874278B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211549935.6,技术领域涉及:C30B23/02;该发明授权单晶外延薄膜激光脉冲镀膜装置及制备方法是由张晓军;李炳坤;夏慧设计研发完成,并于2022-12-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本单晶外延薄膜激光脉冲镀膜装置及制备方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种单晶外延薄膜激光脉冲镀膜装置及制备方法,单晶外延薄膜激光脉冲镀膜装置包括第一平台、第一驱动机构、第二平台、激光源与挡板,第一驱动机构驱动第一平台旋转,挡板位于第一平台与第二平台之间,挡板具有透过孔,透过孔用于供羽辉的中心区域穿过;制备方法采用上述的镀膜装置执行。挡板仅供羽辉的中心区域穿过,羽辉中心区域的原子能量较高且具有相同的取向,使基底上的薄膜能够以单一的取向外延生长,通过改变透过孔与基底的相对位置,可以改变羽辉在基底上的沉积区域,以在基底的表面形成多个连续分布的镀膜区,从而在基底上形成大面积的单晶外延薄膜。
本发明授权单晶外延薄膜激光脉冲镀膜装置及制备方法在权利要求书中公布了:1.单晶外延薄膜激光脉冲镀膜装置,其特征在于,包括: 第一平台,用于装载基底; 第一驱动机构,与所述第一平台连接,并用于驱动所述第一平台旋转; 第二平台,用于装载靶材,所述第一平台与所述第二平台相对设置; 激光源,用于向所述靶材发射激光束,以在所述靶材表面形成羽辉; 挡板,位于所述第一平台与所述第二平台之间,所述挡板具有贯穿的透过孔,所述透过孔用于供所述羽辉的中心区域穿过并沉积于所述基底的表面,以在所述基底的表面形成呈环形的镀膜区; 其中,供所述羽辉穿过的所述透过孔与所述基底的相对位置能够改变,以在所述基底的表面形成多个连续分布的所述镀膜区; 所述单晶外延薄膜激光脉冲镀膜装置还包括第二驱动机构,所述第二驱动机构包括第一驱动件,所述第一驱动件与所述挡板连接,所述第一驱动件用于驱动所述挡板沿所述第一平台的径向移动,以改变所述透过孔与所述基底的相对位置; 所述激光源能够发射多束激光束,所述挡板上设置有多个孔组,相邻所述孔组沿所述第一平台的径向分布,每一所述孔组内设置有多个所述透过孔,且多个所述透过孔均匀分布于同一圆周,所述孔组内的每一所述透过孔内均能够供一个所述激光束在所述靶材表面激发的所述羽辉的中心区域穿过,所述单晶外延薄膜激光脉冲镀膜装置还包括调节板,所述调节板与所述挡板层叠设置,所述调节板能够相对挡板移动,以露出其中一个所述孔组内的所述透过孔。
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