光谱创新公司A·阿查里德获国家专利权
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龙图腾网获悉光谱创新公司申请的专利用于样本的光谱分析的设备以及用于借助于这样的设备来分析样本的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115885167B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180050502.3,技术领域涉及:G01N21/3563;该发明授权用于样本的光谱分析的设备以及用于借助于这样的设备来分析样本的方法是由A·阿查里德;I·比尔卢埃兹;P·布陶瓦库;O·查尔斯-弗朗索瓦;E·罗格朗;M·梅萨乌迪;S·奥多斯;C·弗伊欣设计研发完成,并于2021-08-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于样本的光谱分析的设备以及用于借助于这样的设备来分析样本的方法在说明书摘要公布了:本发明涉及一种用于分析非均质样本S的设备1,该设备1包括具有储存器110的测量模块100、第一红外光谱学子组件120和第二荧光光谱学子组件130,该储存器被配置成容纳样本S。第一子组件包括漫射光学元件140,该漫射光学元件被定位成允许以高精度实现可靠的红外光谱学测量,而不会使发生在同一样本上的荧光光谱学测量降级。该设备还包括处理模块200,该处理模块通过通信网络300连接至测量模块100并且包括处理器220,该处理器被配置成分析由红外光谱学和荧光光谱学获得的数据。
本发明授权用于样本的光谱分析的设备以及用于借助于这样的设备来分析样本的方法在权利要求书中公布了:1.一种用于分析非均质样本S的设备1,所述设备1的特征在于它包括: 测量模块100,包括: 储存器110、410,其被配置成容纳所述非均质样本S并且装备有第一壁112、422和与所述第一壁相对的第二壁114、432, 第一红外光谱学子组件120,其包括:第一激发源122,所述第一激发源被配置成向所述储存器的所述第一壁112、422发射在红外场中和或近红外场中的电磁辐射ES1,所述第一壁112、422对于红外电磁辐射ES1是透明的;以及用于采集透射光谱SiR、Si的第一采集装置124, 第二荧光光谱学子组件130,其包括:至少一个第二激发源132,该至少一个第二激发源被配置成向所述储存器的所述第二壁发射在紫外和或可见场中的电磁辐射ES2,所述第二壁114、432对于所述电磁辐射ES1、ES2是透明的,使得能由所述第一激发源122照明的所述非均质样本S的体积至少部分地对应于能由所述第二激发源132照明的所述非均质样本的体积;以及用于采集所述非均质样本S的荧光光谱Sf1、Sf2的第二采集装置134, 所述第一红外光谱学子组件120包括用于由所述第一激发源122所发射的所述电磁辐射ES1的漫射和透明光学元件140,所述透明光学元件140被定位在所述第一激发源122与所述储存器的所述第一壁112、422之间或所述储存器的所述第二壁114、432与所述第一采集装置124之间、在由所述第二激发源132发射的所述电磁辐射ES2的光学路径之外并且在所述第二激发源132发射的电磁辐射ES2被暴露时用于收集由所述非均质样本S发射的荧光信号的立体角之外,以及 处理模块200,所述处理模块通过通信网络300连接至所述测量模块100并且包括处理器220,所述处理器被配置成分析由红外光谱学和荧光光谱学获得的数据。
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