株式会社LG化学金旼俊获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社LG化学申请的专利光调制装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115989452B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180047897.1,技术领域涉及:G02F1/137;该发明授权光调制装置是由金旼俊;吴东炫;柳正善;金真弘;金正云;徐汉珉设计研发完成,并于2021-07-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本光调制装置在说明书摘要公布了:本申请可以提供即使在其中施加压力的封装过程例如高压釜过程之后也可以稳定地保持设计的光学特性的光调制装置、光学装置或其制造方法。本申请还可以提供在有效地确保上基底与下基底之间的粘合力的同时还可以稳定地保持光调制层的取向状态的光调制装置、包括其的光学装置或其制造方法。
本发明授权光调制装置在权利要求书中公布了:1.一种光学装置,包括:彼此相对设置的第一外基底和第二外基底;以及在所述第一外基底与所述第二外基底之间的用封装剂封装的光调制装置, 其中所述光调制装置包括光调制膜层, 其中所述光调制膜层包括: 第一基底和第二基底;以及 液晶层, 其中所述第一基底和所述第二基底各自具有第一表面和第二表面, 其中所述第一基底和所述第二基底设置成彼此相对; 其中所述液晶层在所述第一基底与所述第二基底之间,并且形成为能够实现扭曲取向, 其中在所述第一基底的第一表面上形成有有机硅压敏粘合剂层,在所述第二基底的第一表面上形成有液晶配向膜,以及所述第一基底和所述第二基底被设置成使得所述第一表面彼此面对, 其中所述液晶配向膜为垂直配向膜,以及 其中以下等式1的K值在0.19至0.3的范围内: [等式1] K=Δn×pt 其中,Δn为所述液晶层的折射率各向异性,p为所述扭曲取向的节距,以及t为所述液晶层的厚度。
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