武汉帝尔激光科技股份有限公司埃亚尔·科恩获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉帝尔激光科技股份有限公司申请的专利使用释放层和/或浆料混合物的图案转印片和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116001465B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211308052.6，技术领域涉及：B41M5/025；该发明授权使用释放层和/或浆料混合物的图案转印片和方法是由埃亚尔·科恩;纳塔利·科恩;哈吉特·吉隆设计研发完成，并于2022-10-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本使用释放层和/或浆料混合物的图案转印片和方法在说明书摘要公布了：一种使用释放层和或浆料混合物的图案转印片和方法，提供了用于印刷具有高的高宽比的浆料图案例如，细的栅线和用于增加图案转印印刷的产量的图案转印片和方法。图案转印片中的沟槽内部涂覆有配置成在照射时分解的涂层，所述沟槽被配置成填充有印刷浆料并且在通过激光束照射时使得能够将印刷浆料从沟槽中释放到接收基板上。涂层被配置成增强浆料的释放‑提高产量和印刷精度。可以在浆料沉积之后通过从其中除去涂层的分解产物来清洁接收基板。替代地或互补地，可以将激光吸收染料混合到印刷浆料中以促进其从沟槽中释放。
本发明授权使用释放层和/或浆料混合物的图案转印片和方法在权利要求书中公布了：1.一种图案转印片，包括： 以特定图案排列的复数个沟槽， 其中所述沟槽内部涂覆有涂层并且在所述涂层的顶部填充有印刷浆料，其中所述涂层被配置成在通过激光束照射时分解，以及所述涂层的分解将所述印刷浆料从所述沟槽释放出来到接收基板上；以及其中所述涂层仅涂覆在所述沟槽内部，以及所述涂层的厚度为1μm至10μm。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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