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龙图腾网获悉中国计量大学申请的专利一种控制图的设计方法及数据分析系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116011179B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211552767.6，技术领域涉及：G06F30/20；该发明授权一种控制图的设计方法及数据分析系统是由洪涛;郁蓥荧;李九生;周娟设计研发完成，并于2022-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种控制图的设计方法及数据分析系统在说明书摘要公布了：本发明提供一种控制图的设计方法及数据分析系统，包括获取样本数据，生成样本数据集，并基于EWMA控制图生成EWMA统计量；计算样本数据的均值；根据样本数据的均值，将样本数据分为第一部分及第二部分，分别对第一部分与第二部分进行对称处理构造对应的第一正态分布以及第二正态分布，并分别计算第一正态分布方差以及第二正态分布方差；计算样本数据小于样本数据集的数学期望的分布概率；根据第一正态分布方差，第二正态分布方差及分布概率确定控制限；根据控制限绘制控制图的控制界限，并确定EWMA统计量在控制图中的位置，生成控制图。本申请所提出的控制图不要求数据满足正态分布的要求，可广泛应用于智能制造生产过程的质量控制。

本发明授权一种控制图的设计方法及数据分析系统在权利要求书中公布了：1.一种控制图的设计方法，其特征在于，所述设计方法包括以下步骤： S1、获取生产样本数据，生成生产样本数据集，并基于EWMA控制图生成EWMA统计量； S2、基于概率赋权方差法构造控制限； S3、根据所述控制限绘制所述控制图的控制界限，并确定所述EWMA统计量在所述控制图中的位置，生成所述控制图； 其中，步骤S2包括： S201、计算所述生产样本数据的均值； S202、根据所述生产样本数据的均值，将所述生产样本数据分为大于生产样本数据均值的第一部分以及小于所述生产样本数据均值的第二部分，对第一部分进行对称处理构造第一正态分布，并对第二部分进行对称处理构造第二正态分布，计算第一正态分布相对于所述生产样本数据均值的方差获得第一正态分布方差，并计算第二正态分布相对于所述生产样本数据均值的方差获得第二正态分布方差； S203、计算生产样本数据小于生产样本数据集的数学期望的分布概率； S204、根据所述第一正态分布方差，第二正态分布方差，并结合所述分布概率确定所述控制限； 所述生产样本数据的总体方差表示为：； 所述第一正态分布方差表示为：； 结合所述分布概率，所述生产样本数据的第一部分的方差表示为： 第二正态分布方差表示为： 结合所述分布概率，所述生产样本数据的第二部分的方差表示为： 式中，表示生产样本数据小于生产样本数据集的数学期望的分布概率； 所述控制限通过如下公式表示： 式中，UCL表示控制上限，LCL表示控制下限，CL表示所述控制上限与所述控制下限的均值，表示样品数据均值，表示所述生产样本数据小于生产样本数据集数学期望的概率，λ表示平滑参数，表示单次抽样数量，表示分位数，所述分位数由所述控制限的显著水平决定。

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