应用材料公司赛捷·托克·加勒特·多莎获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利光学装置和光学装置计量的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116157708B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180061014.2，技术领域涉及：G02B1/00；该发明授权光学装置和光学装置计量的方法是由赛捷·托克·加勒特·多莎;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森设计研发完成，并于2021-06-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学装置和光学装置计量的方法在说明书摘要公布了：本公开内容的实施方式涉及具有一个或更多个计量特征的光学装置和光学装置计量的方法以提供计量工具位置识别，而对光学装置的光学性能的影响可忽略不计。光学装置包括一个或更多个目标特征。本文描述的目标特征提供计量工具位置识别，而对光学装置的光学性能的影响可忽略不计。在计量工艺中，目标特征允许计量工具确定具有宏观尺度的表面面积的光学装置的一个或更多个位置。目标特征对应于合并在一起的一个或更多个结构、被已移除的一个或更多个结构环绕的合并在一起的一个或更多个结构、或具有一个或更多个轮廓的已移除的一个或更多个结构，由与目标特征相邻的结构来限定所述一个或更多个轮廓。
本发明授权光学装置和光学装置计量的方法在权利要求书中公布了：1.一种光学装置，包含： 基板；和 多个结构，所述多个结构设置于所述光学装置的所述基板的表面上，所述多个结构具有小于一个微米的临界尺寸，所述多个结构包括对应于合并在一起的一个或更多个结构的一个或更多个目标特征，其中一个或更多个目标特征对所述多个结构的比率在1：100,000与1： 1,000,000,000之间，并且其中能通过计量工具来读取所述一个或更多 个目标特征。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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