SLM方案集团股份公司丹尼尔·布吕克获国家专利权
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龙图腾网获悉SLM方案集团股份公司申请的专利操作辐照系统的方法、辐照系统以及用于生产三维工件的设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116348224B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180063337.5，技术领域涉及：B22F10/28；该发明授权操作辐照系统的方法、辐照系统以及用于生产三维工件的设备是由丹尼尔·布吕克;克努特·克劳斯;安德烈·斯科贝尔设计研发完成，并于2021-10-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本操作辐照系统的方法、辐照系统以及用于生产三维工件的设备在说明书摘要公布了：在操作辐照系统10的方法中，该辐照系统用于用电磁辐射或粒子辐射对原料粉末的层进行辐照以生产三维工件110，根据待生产的工件110的对应层的几何形状，确定用电磁辐射或粒子辐射选择性地辐照的原料粉末层11的区域是否受到颗粒杂质的影响或基本不受到颗粒杂质的影响。在用电磁辐射或粒子辐射对原料粉末层11的区域进行选择性地辐照时，以如下的方式控制由辐射束14a，14b施加到原料粉末层11的区域上的能量密度：在确定原料粉末层11的区域受到颗粒杂质影响的情况下的能量密度高于在确定原料粉末层11的区域基本上不受到颗粒杂质影响的情况下的能量密度。
本发明授权操作辐照系统的方法、辐照系统以及用于生产三维工件的设备在权利要求书中公布了：1.操作辐照系统10的方法，所述辐照系统用于用电磁辐射或粒子辐射对原料粉末的层进行辐照以生产三维工件110，所述方法包括以下步骤： -根据待生产的所述三维工件110的对应层的几何形状，将用电磁辐射或粒子辐射选择性地辐照的原料粉末层11细分为多个区域； -对于至少一个区域，在用电磁辐射或粒子辐射对所述区域进行选择性地辐照之前，确定所述区域受到颗粒杂质的影响或基本上不受到颗粒杂质的影响；以及 -在用电磁辐射或粒子辐射对所述原料粉末层11的所述区域进行选择性地辐照时，以如下的方式控制由辐射束14a，14b施加到所述原料粉末层11的所述区域上的能量密度：在确定所述原料粉末层11的所述区域受到颗粒杂质影响的情况下的能量密度高于在确定所述原料粉末层11的所述区域基本上不受到颗粒杂质影响的情况下的能量密度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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