西默有限公司J·T·梅尔基奥尔获国家专利权
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龙图腾网获悉西默有限公司申请的专利用于深紫外光源的光学部件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116368409B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180074195.2，技术领域涉及：G02B5/08；该发明授权用于深紫外光源的光学部件是由J·T·梅尔基奥尔设计研发完成，并于2021-10-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于深紫外光源的光学部件在说明书摘要公布了：一种光学部件包括：氟化钙衬底，其包括原子级光滑的衬底表面，该原子级光滑的衬底表面形成光学相互作用表面的至少一部分；以及密封剂层，该密封剂层覆盖原子级光滑的衬底表面，从而在氟化钙衬底与密封剂层之间形成光滑的界面。原子级光滑的衬底表面的轮廓粗糙度参数Ra在从0.01纳米nm至0.17nm且包括0.17nm的范围内，该轮廓粗糙度参数Ra被定义为原子级光滑的衬底表面的轮廓的平均偏差。
本发明授权用于深紫外光源的光学部件在权利要求书中公布了：1.一种光学部件，包括： 氟化钙衬底，包括原子级光滑的衬底表面，所述原子级光滑的衬底表面形成光学相互作用表面的至少一部分；以及 密封剂层，覆盖所述原子级光滑的衬底表面，从而在所述氟化钙衬底与所述密封剂层之间形成光滑界面； 其中所述原子级光滑的衬底表面的轮廓粗糙度参数Ra在从0.01纳米nm至0.17纳米且包括0.17纳米的范围内，所述轮廓粗糙度参数Ra被定义为所述原子级光滑的衬底表面的轮廓的平均偏差。
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