京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司齐璞玉获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利阵列基板及显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116390539B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310596716.1，技术领域涉及：H10K50/844；该发明授权阵列基板及显示装置是由齐璞玉设计研发完成，并于2023-05-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本阵列基板及显示装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种阵列基板及显示装置，阵列基板包括衬底基板和设置在衬底基板上的发光层、像素界定层、电极层和封装层，其中，像素界定层限定出多个像素区，发光层包括位于多个像素区中的有机发光功能层；电极层覆盖于像素界定层和有机发光功能层；封装层覆盖于电极层；封装层的背离电极层一侧的表面的至少部分区域形成为表面处理区，表面处理区用于使经过的光线发生散射。利用表面处理区使经过的光线发生散射的特性，可以避免用点光源照射向屏幕内照射时，会产生由中心向外侧逐渐扩散的彩色光圈现象。
本发明授权阵列基板及显示装置在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板，包括衬底基板和设置在所述衬底基板上的发光层、像素界定层、电极层和封装层，其中，所述像素界定层限定出多个像素区，所述发光层包括位于多个所述像素区中的有机发光功能层；所述电极层覆盖于所述像素界定层和所述有机发光功能层；所述封装层覆盖于所述电极层；其特征在于， 所述封装层的背离所述电极层一侧的表面的至少部分区域形成为表面处理区，所述表面处理区形成有凹凸结构，用于使经过的光线发生散射； 所述像素界定层的与所述像素区相邻的坡面形成有缓坡区，所述缓坡区与所述衬底基板所在平面之间的夹角小于等于预设角度；所述预设角度为20°；所述缓坡区正投影于所述封装层背离所述电极层一侧的表面上的区域为投影区； 所述表面处理区至少包括所述投影区； 所述缓坡区位于靠近所述坡面的坡顶的位置。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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