大金工业株式会社森安礼奈获国家专利权
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龙图腾网获悉大金工业株式会社申请的专利表面处理剂获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116457438B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180075290.4，技术领域涉及：C09K3/00；该发明授权表面处理剂是由森安礼奈;波北悟;森田正道设计研发完成，并于2021-11-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本表面处理剂在说明书摘要公布了：本发明的表面处理剂含有：A下述式A1或式A2所示的化合物；和B下述式B1或式B2所示的化合物，上述表面处理剂含有上述式A2所示的化合物或上述式B2所示的化合物中的至少1种。
本发明授权表面处理剂在权利要求书中公布了：1.一种表面处理剂，其特征在于： 含有：A下述式A1所示的化合物或下述式A2所示的化合物；和B下述式B2所示的化合物， 式A1中： M为Si； R1分别独立地为氢原子或C1－6烷基； R4分别独立地为C1－3烷基或C1－3烷氧基； m为所述M的价数； n为0以上且所述M的价数以下； 式A2中： R2a在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团； R3a在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团； na在每个SiR2anaR3a3－na单元中分别独立地为1～3的整数； R9a分别独立地为单键或2价的基团； 式B2中： R2b在每次出现时分别独立地为羟基或水解性基团； R3b在每次出现时分别独立地为氢原子或1价的有机基团； nb在每个SiR2bnbR3b3－nb单元中分别独立地为1～3的整数； R9b分别独立地为单键或2价的基团； R8为C1－30烷基、C1－30氧基烷基、C1－30氟代烷基、－XS－RS或含全氟聚醚的基团，其中，XS为单键或2价的有机基团，RS为硅氧烷基。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人大金工业株式会社，其通讯地址为：日本大阪府；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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