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北京工业大学王智勇获国家专利权

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龙图腾网获悉北京工业大学申请的专利一种出射相干阵激光的内泵浦薄片激光器及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116544762B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310520346.3,技术领域涉及:H01S3/08;该发明授权一种出射相干阵激光的内泵浦薄片激光器及其制备方法是由王智勇;张彤;代京京设计研发完成,并于2023-05-09向国家知识产权局提交的专利申请。

一种出射相干阵激光的内泵浦薄片激光器及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明提供一种出射相干阵激光的内泵浦薄片激光器,包括:热沉、泵浦光源、耦合模块、内谐振腔和切角外腔,内谐振腔、切角外腔和设置在切角外腔前端面外侧的双波长反射层构成谐振腔,内谐振腔包括在切角外腔内部从前端面内侧到后端面依次设置的半反半透层、微结构薄片和双波长高反层,双波长高反层以及切角外腔后端面均与热沉相贴。该出射相干阵激光的内泵浦薄片激光器具有能够提高泵浦效率、输出功率、光束质量和稳定性,并能实现结构紧凑小型化的优势。本发明还提供一种出射相干阵激光的内泵浦薄片激光器的制备方法。

本发明授权一种出射相干阵激光的内泵浦薄片激光器及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种出射相干阵激光的内泵浦薄片激光器,包括:热沉、泵浦光源和耦合模块,其特征在于,所述出射相干阵激光的内泵浦薄片激光器还包括:内谐振腔和切角外腔,内谐振腔、切角外腔和设置在所述切角外腔前端面外侧的双波长反射层构成谐振腔,所述内谐振腔包括在所述切角外腔内部从前端面内侧到后端面依次设置的半反半透层、微结构薄片和双波长高反层,所述双波长高反层以及切角外腔后端面均与所述热沉相贴, 其中,所述泵浦光源发出泵浦光经所述耦合模块垂直于所述切角外腔泵浦面入射,泵浦光在谐振腔中多次折返形成腔内泵浦并在内谐振腔中形成振荡光阵列,所述振荡光阵列经由半反半透层射出切角外腔,切角外腔前端面外侧的双波长反射层将振荡光阵列部分反射回内谐振腔形成反馈注入,实现相干阵模式锁定,从而形成相干阵激光输出; 所述切角外腔前后分为相干阵模式锁定层和泵浦辅助层,所述泵浦辅助层与相干阵模式锁定层的端面口径大于所述微结构薄片口径,所述泵浦辅助层端面口径小于或等于相干阵模式锁定层的端面口径,所述泵浦辅助层前端面与相干阵模式锁定层后端面采用键合方式连接,所述泵浦辅助层由与微结构薄片相同通光材料形成,所述相干阵模式锁定层由与微结构薄片相同或不同通光材料形成,所述泵浦辅助层与相干阵模式锁定层均未掺杂增益离子。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人北京工业大学,其通讯地址为:100124 北京市朝阳区平乐园100号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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