恩维世科斯有限公司T·斯米顿获国家专利权
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龙图腾网获悉恩维世科斯有限公司申请的专利全息光检测和测距获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116601516B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180062645.6，技术领域涉及：G01S7/481；该发明授权全息光检测和测距是由T·斯米顿;A·阿斯马里;G·富勒设计研发完成，并于2021-06-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本全息光检测和测距在说明书摘要公布了：一种布置成勘测场景的光检测和测距“LIDAR”系统。该LIDAR系统包括空间光调制器，其布置成显示包括光足迹的全息图的衍射图案。该LIDAR系统还包括光源，其布置成照射衍射图案以在场景中的全息重放平面上形成光足迹的全息重建。根据本公开，光足迹包括光特征阵列，例如光点阵列。该LIDAR系统还包括显示驱动器，其布置成控制空间光调制器并随时间改变衍射图案。衍射图案随时间变化，使得光特征阵列中的每个光特征扫描场景的相应子区域。该LIDAR系统包括具有多个光检测元件的检测系统。检测系统配置成使得每个光检测元件检测来自场景内的相应单独视场的光。场景的每个子区域包含多个单独视场。
本发明授权全息光检测和测距在权利要求书中公布了：1.一种布置成勘测场景的光检测和测距“LIDAR”系统，该系统包括： 空间光调制器，其布置成显示包括光足迹的全息图的衍射图案，其中光足迹包括光特征阵列； 光源，其布置成照射衍射图案以形成光足迹的全息重建，其中光足迹的全息重建被投影到场景上； 显示驱动器，其布置成控制空间光调制器并随时间改变衍射图案，使得光特征阵列中的每个光特征扫描场景的相应子区域； 包括多个光检测元件的检测系统，其中检测系统配置成使得每个光检测元件检测来自场景内的与其相应单独视场相对应的限定区域的光，并且场景的每个子区域包含与多个单独视场相对应的多个限定区域。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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