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龙图腾网获悉成都茵创园医药科技有限公司申请的专利IRAK降解剂及其用途获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116925085B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310910651.3，技术领域涉及：C07D487/04；该发明授权IRAK降解剂及其用途是由张登友;李萍设计研发完成，并于2023-07-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本IRAK降解剂及其用途在说明书摘要公布了：本发明提供了式I所示的的化合物及其在制备药物中的用途。本发明提供了一种新的具有IRAK4降解作用的化合物，能够有效降解IRAK4或者以其他方式抑制IRAK4的活性。在IRAK4介导的疾病包括免疫性疾病、肿瘤、阿尔茨海默病和纤维化疾病等疾病中具有非常好的应用前景，为临床上筛选和或制备与IRAK4活性相关的疾病的药物提供了一种新的选择。

本发明授权IRAK降解剂及其用途在权利要求书中公布了：1.式III所示的化合物、或其立体异构体、或其药学上可接受的盐： 式III 其中， R1选自-NR1aR1b、4~10元杂环基、5~12元桥杂环基或5~12元螺杂环基，其中所述杂环基、桥杂环基、螺杂环基可任选被一个、两个或三个R11取代； R1a、R1b分别独立选自氢、C1~6烷基、C2~6烯基、C2~6炔基、卤素取代的C1~6烷基、卤素取代的C2~6烯基、卤素取代的C2~6炔基、-C0~2亚烷基-3~10元碳环基或-C0~2亚烷基-4~10元杂环基； 每个R11分别独立选自氢、卤素、C1~6烷基、C2~6烯基、C2~6炔基、卤素取代的C1~6烷基、卤素取代的C2~6烯基、卤素取代的C2~6炔基、-C0~2亚烷基-OR12、-C0~2亚烷基-NR12R13、-C0~2亚烷基-COR12、-C0~2亚烷基-NR12COR13、-C0~2亚烷基-CONR12R13、-C0~2亚烷基-3~10元碳环基或-C0~2亚烷基-4~10元杂环基； R12、R13分别独立选自氢、C1~6烷基、C2~6烯基、C2~6炔基、卤素取代的C1~6烷基、卤素取代的C2~6烯基、卤素取代的C2~6炔基、-C0~2亚烷基-3~10元碳环基或-C0~2亚烷基-4~10元杂环基； n1、n2分别独立选自0、1或2； U选自N或CRU； RU选自氢或C1~6烷基； V选自化学键、O、S或CRV1RV2； RV1、RV2分别独立选自氢或C1~6烷基； 所述A环为； Q选自N或CRQ； RX选自氢、卤素、氰基、C1~6烷基、C2~6烯基、C2~6炔基、卤素取代的C1~6烷基、卤素取代的C2~6烯基、卤素取代的C2~6炔基、-C0~2亚烷基-ORX1、-C0~2亚烷基-NRX1RX2、-C0~2亚烷基-3~10元碳环基或-C0~2亚烷基-4~10元杂环基； RX1、RX2分别独立选自氢、C1~6烷基、C2~6烯基、C2~6炔基、卤素取代的C1~6烷基、卤素取代的C2~6烯基或卤素取代的C2~6炔基； RQ选自氢、卤素、C1~6烷基、C2~6烯基、C2~6炔基、卤素取代的C1~6烷基、卤素取代的C2~6烯基或卤素取代的C2~6炔基。

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