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龙图腾网获悉北京工业大学申请的专利一种双相位调制层相干阵激光器获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117293634B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311251459.4，技术领域涉及：H01S3/08；该发明授权一种双相位调制层相干阵激光器是由王智勇;张彤设计研发完成，并于2023-09-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种双相位调制层相干阵激光器在说明书摘要公布了：本发明公开了一种双相位调制层相干阵激光器，包括：泵浦源、泵浦耦合系统和连续激活介质，连续激活介质的一侧或两侧设有双相位调制耦合层，且在设有双相位调制耦合层的连续激活介质的两端分别设有全反射层和高反射层，连续激活介质、双相位调制耦合层、全反射层和高反射层构成相位耦合腔；泵浦源经泵浦耦合系统激发连续激活介质产生振荡光，振荡光入射至双相位调制耦合层进行相位调制，形成相位耦合相干阵振荡光，全反射层和高反射层使相位耦合相干阵振荡光在相位耦合腔中往复振荡，并通过高反射层输出相干阵激光。本发明能够完全利用激活介质，提高相干性，有利于迅速形成输出光完全紧密排布与孔径装填的相干阵激光，且结构简单紧凑。

本发明授权一种双相位调制层相干阵激光器在权利要求书中公布了：1.一种双相位调制层相干阵激光器，其特征在于，包括：泵浦源、泵浦耦合系统、连续激活介质、双相位调制耦合层、全反射层和高反射层，所述连续激活介质的一侧或两侧设有所述双相位调制耦合层，且在设有所述双相位调制耦合层的连续激活介质的两端分别设有所述全反射层和高反射层，所述连续激活介质、双相位调制耦合层、全反射层和高反射层构成相位耦合腔； 所述泵浦源经所述泵浦耦合系统激发所述连续激活介质产生振荡光，所述振荡光入射至双相位调制耦合层进行相位调制，形成相位耦合相干阵振荡光，所述全反射层和高反射层使所述相位耦合相干阵振荡光在所述相位耦合腔中往复振荡，并通过所述高反射层输出相干阵激光； 所述双相位调制耦合层包括依次设置的第一相位调制层、无源耦合层和第二相位调制层，所述第一相位调制层与所述连续激活介质之间设有增透层；振荡光入射至所述双相位调制耦合层后，被第一相位调制层、无源耦合层和第二相位调制层进行相位调制，形成相位耦合相干阵振荡光； 所述无源耦合层的厚度满足振荡光经过一次产生相移为-2倍的所述第一相位调制层所提供周期性相位调制的±2mπ，m为整数；所述第一相位调制层和第二相位调制层能够为振荡光提供一维或二维周期性的相位调制，所述第一相位调制层与第二相位调制层所提供的周期性相位调制的相差为2nπ，n为整数。

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