季华实验室徐秀兰获国家专利权
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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利一种FeCoCr薄膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117418197B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311272007.4，技术领域涉及：C23C14/16；该发明授权一种FeCoCr薄膜及其制备方法和应用是由徐秀兰;赵荻;郭奇勋;于广华设计研发完成，并于2023-09-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种FeCoCr薄膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明涉及材料领域，具体涉及一种FeCoCr薄膜及其制备方法和应用、所述FeCoCr薄膜包括多层结构，所述多层结构包括基底层和FeCoCr层，以及设在所述基底层和所述FeCoCr层之间的Pt层，引入Pt层后，由于Pt层的加入与FeCoCr层发生扩散反应，从而在薄膜中产生了L10‑FePt相，形成了硬磁新相，使得FeCoCr薄膜的矫顽力得到大幅提升，同时，Pt元素有效地促进了FeCoCr薄膜内部α相调幅分解为强磁相与富Cr的非磁相，而富Cr的非磁相在薄膜内部起到钉扎磁畴的作用，又进一步地大幅提高材料的矫顽力，通过两个机制协同作用，使得FeCoCr薄膜的矫顽力得到大幅度的提升，因此，后续使用FeCoCr薄膜制备的码盘材料材料具有更高的性能，同时码盘信号写入后具有更高的稳定性和抗外界干扰能力。
本发明授权一种FeCoCr薄膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种FeCoCr薄膜，其特征在于，所述FeCoCr薄膜包括多层结构，所述多层结构包括基底层和FeCoCr层，以及设在所述基底层和所述FeCoCr层之间的Pt层，其中，Pt元素与Fe元素结合，在所述FeCoCr薄膜中产生了L10-FePt相，形成了硬磁新相，所述Pt层的厚度为6~10nm；所述FeCoCr层的厚度为90~110nm。
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