浙江大学夏万顺获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江大学申请的专利一种自适应结构单晶叶片的制备方法及自适应结构单晶叶片获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117488222B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311564243.3，技术领域涉及：C22F1/10；该发明授权一种自适应结构单晶叶片的制备方法及自适应结构单晶叶片是由夏万顺;赵新宝;谷月峰;岳全召;张泽设计研发完成，并于2023-11-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种自适应结构单晶叶片的制备方法及自适应结构单晶叶片在说明书摘要公布了：本发明公开了一种自适应结构单晶叶片的制备方法，包括以下步骤：快冷均匀化处理，在大尺寸γ′相溶解线以上温度处理4‑30小时，充分溶解铸态组织后以大于1000℃s的速度冷却至室温，以大量析出小尺寸γ′相；自适应结构处理，在叶片实际服役环境中处理2‑8小时，后空冷至室温，获得目标组织结构；组织稳定化处理，在小尺寸γ′相溶解线以下温度处理12‑48，后空冷至室温，以固化所述自适应结构处理获得的目标组织结构。本发明还公开了一种自适应结构单晶叶片。本发明改变了传统单晶合金热处理及组织调控思路，通过热处理工艺设计使单晶叶片中形成非均匀γ′相分布，不同区域的γ′相分布特征取决于该区域所处的服役环境，使各区域强度均得到提高，达到自适应强化效果。
本发明授权一种自适应结构单晶叶片的制备方法及自适应结构单晶叶片在权利要求书中公布了：1.一种自适应结构单晶叶片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： 快冷均匀化处理，在大尺寸γ′相溶解线以上温度处理4-30小时，充分溶解铸态组织后以大于1000℃s的速度冷却至室温，以大量析出小尺寸γ′相；所述大尺寸γ′相边长为200-600nm，所述小尺寸γ′相直径为1-50nm； 自适应结构处理，在叶片实际服役环境中处理2-8小时，后空冷至室温，获得目标组织结构； 组织稳定化处理，在小尺寸γ′相溶解线以下温度处理12-48小时，后空冷至室温，以固化所述自适应结构处理获得的目标组织结构。
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