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龙图腾网获悉武汉理工大学申请的专利一种在石英玻璃表面沉积碳化硅涂层的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117488267B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311358178.9，技术领域涉及：C23C16/02；该发明授权一种在石英玻璃表面沉积碳化硅涂层的方法是由章嵩;徐青芳;杨梅君;涂溶;张联盟设计研发完成，并于2023-10-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种在石英玻璃表面沉积碳化硅涂层的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种在石英玻璃表面沉积碳化硅涂层的方法，具体步骤如下：1抽真空使沉积腔内压强降到10Pa以下；2向沉积腔内通入氢气，调节沉积腔内压强为200～2000Pa，加载激光对石英玻璃表面进行刻蚀；3将沉积腔内抽真空至10Pa以下，再通入六甲基二硅烷和氢气，调节反应腔内压强为1000～4000Pa，加载激光在石英玻璃表面沉积碳化硅涂层。本发明提供的在石英玻璃表面沉积碳化硅涂层的方法工艺较为简单，在石英玻璃表面所制备的碳化硅涂层无裂纹，且涂层与衬底结合力显著增加，因而显著提升了石英玻璃坩埚使用寿命与稳定性，有利于大尺寸、高纯单晶硅晶圆的生产。

本发明授权一种在石英玻璃表面沉积碳化硅涂层的方法在权利要求书中公布了：1.一种在石英玻璃表面沉积碳化硅涂层的方法，其特征在于，具体步骤如下： 1将石英玻璃基板放置于激光化学气相沉积设备沉积腔内的基座上，抽真空使沉积腔内压强降到10Pa以下； 2向沉积腔内通入氢气，氢气流速为50～1000sccm，调节沉积腔内压强为200～2000Pa，打开连续激光器，激光波长为808～1060nm，通过沉积腔上玻璃窗口向石英玻璃基板表面加载激光对石英玻璃表面进行刻蚀，对石英玻璃表面进行刻蚀的工艺条件为：待石英玻璃基板表面温度达到1100～1300℃后持续激光照射2～30min，刻蚀结束后关闭激光器和氢气； 3将沉积腔内抽真空至10Pa以下，再通入六甲基二硅烷和氢气，调节反应腔内压强为1000～4000Pa，再次打开连续激光器，通过沉积腔上玻璃窗口向石英玻璃基板表面加载激光在石英玻璃表面沉积碳化硅涂层，沉积结束后关闭激光器，关闭六甲基二硅烷和氢气，再将沉积腔内真空降至10Pa以下，待基板自然冷却至室温，打开激光化学气相沉积设备，取出样品。

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