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龙图腾网获悉中国科学院长春光学精密机械与物理研究所申请的专利一种基于正交回转轴系的凸面光栅机械刻划系统及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118244402B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410441413.7，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权一种基于正交回转轴系的凸面光栅机械刻划系统及方法是由于硕;于宏柱;姚雪峰;李文昊;吉日嘎兰图;刘兆武;张博;王锐博;梁烘智;李泽霖设计研发完成，并于2024-04-12向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于正交回转轴系的凸面光栅机械刻划系统及方法在说明书摘要公布了：本发明涉及机械光栅刻划技术领域，具体涉及一种基于正交回转轴系的凸面光栅机械刻划系统及方法，刻划系统包括刻划轨迹规划机构和刻划运动执行机构，刻划轨迹规划机构包括分度运动机构、刻划运动机构和刻划承载台，刻划运动机构与分度运动机构共同组成正交回转轴系，刻划承载台上设有校正调节机构，光栅基底位于校正调节机构上，刻划运动执行机构包括刀架承载台和对刀位移台，刻划时，刻划刀具对光栅基底进行单向挤压刻划。刻划方法包括：S1、进行光栅基底刻划前的装调准备工作；S2、在光栅基底上进行机械刻划。本发明可实现大口径、小闪耀角、高槽形精度的凸面光栅机械刻划。

本发明授权一种基于正交回转轴系的凸面光栅机械刻划系统及方法在权利要求书中公布了：1.一种基于正交回转轴系的凸面光栅机械刻划系统，其特征在于，包括刻划轨迹规划机构和刻划运动执行机构7； 所述刻划轨迹规划机构包括分度运动机构1、刻划运动机构2和刻划承载台3，刻划运动机构2连接于分度运动机构1上，刻划运动机构2的轴线与分度运动机构1的轴线相垂直，刻划运动机构2与分度运动机构1共同组成正交回转轴系；刻划承载台3连接于刻划运动机构2上；刻划承载台3上设有校正调节机构4且光栅基底5放置于校正调节机构4上，光栅基底5由分度运动机构1带动沿光栅周期方向运动、由刻划运动机构2带动沿光栅刻线方向运动；所述校正调节机构4靠近光栅基底5设置且校正调节机构4为三维调节结构，包括半径方向调节体、刻线方向调节体和分度方向调节体； 所述刻划运动执行机构7包括刀架承载台8和滑动位于刀架承载台8上的对刀位移台9，对刀位移台9上设有用以支撑刻划刀具31的刀架支撑机构10和用以驱动刀架支撑机构10伸缩以实现刻划刀具31抬刀落刀动作的抬落刀驱动机构11；刻划时，刻划刀具31对光栅基底5进行单向挤压刻划； 所述刀架支撑机构10上设有球心重合误差补偿件，刀架支撑机构10与对刀位移台9之间设有分度误差补偿件12；所述刀架支撑机构10包括位于对刀位移台9上的夹持座13、连接于夹持座13内的固定支撑座14和铰接于固定支撑座14上的活动支撑座15，活动支撑座15位于光栅基底5与抬落刀驱动机构11之间且刻划刀具31连接于活动支撑座15上，抬落刀驱动机构11可驱动活动支撑座15摆动以实现刻划刀具31的抬刀落刀；球心重合误差补偿件位于活动支撑座15与固定支撑座14之间，分度误差补偿件12位于夹持座13与对刀位移台9之间。

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