上海致领半导体科技发展有限公司张玫娇获国家专利权
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龙图腾网获悉上海致领半导体科技发展有限公司申请的专利抛光废液处理组合物及抛光废液处理方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119038652B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411420834.8，技术领域涉及：C02F1/00；该发明授权抛光废液处理组合物及抛光废液处理方法是由张玫娇设计研发完成，并于2024-10-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本抛光废液处理组合物及抛光废液处理方法在说明书摘要公布了：本发明涉及抛光废液处理组合物及抛光废液处理方法，抛光废液处理组合物包括：第一处理液，所述第一处理液包括草酸、无机强酸和水，其中，所述第一处理液的pH为1～1.5；第二处理液，所述第二处理液包括13‑LF、无机强碱和水，其中，所述第二处理液的pH为12～13。其优点在于，使用低成本的化学药品，可以大幅度降低成本；采用无毒无害的化学药品替代有毒药品，防止工作人员操作时因误触产生误伤；配置溶液时无须复杂操作即可完成溶液配置；仅需将处理液倒入废弃抛光液搅拌静置即可，无复杂操作，简单方便。
本发明授权抛光废液处理组合物及抛光废液处理方法在权利要求书中公布了：1.一种抛光废液处理组合物，用于处理含有KMnO4和Al2O3的废弃抛光液，其特征在于，包括： 第一处理液，所述第一处理液包括草酸、无机强酸和水；其中，所述第一处理液的pH为1~1.5；所述草酸的质量浓度与所述无机强酸的质量浓度相等；在所述第一处理液中，所述草酸、所述无机强酸、所述水的体积比为1：1：3-4； 第二处理液，所述第二处理液包括13-LF、无机强碱和水；其中，所述第二处理液的pH为12~13；13-LF包括5%焦磷酸四钾、5%十三烷醇乙氧基化物、1%氢氧化钾、89%水；在所述第二处理液中，所述13-LF、所述无机强碱、所述水的体积比为1：1：3-5。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海致领半导体科技发展有限公司，其通讯地址为：201300 上海市浦东新区创业路369弄1-68号20幢3层301室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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