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龙图腾网获悉珠海东辉半导体装备有限公司申请的专利适配圆形扫描区域的振镜校正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119335739B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-03-31发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411682278.1，技术领域涉及：G02B27/00；该发明授权适配圆形扫描区域的振镜校正方法是由张贤俊;李成炯;白秉万;董岱;崔㠯镐;徐石峰设计研发完成，并于2024-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。

本适配圆形扫描区域的振镜校正方法在说明书摘要公布了：本发明涉及，公开了适配圆形扫描区域的振镜校正方法，所述的方法包括：确定场镜的扫描区域、第一校正区域和中心点；以所述中心点为基准，沿顺时针或逆时针方向，作多个辅助直角三角形，以每个辅助直角三角形的短直角边为边长，作多个辅助正方形，将所有完全处于所述场镜的扫描区域的辅助正方形拼接而成的区域拟合成一块，形成第二校正区域。本方案设计了一种分区域多次校正，然后再进行拟合的校正方法，可以有效的增加校正范围，使校正区域充满整个场镜圆区域，有效的避免了区域浪费。

本发明授权适配圆形扫描区域的振镜校正方法在权利要求书中公布了：1.适配圆形扫描区域的振镜校正方法，应用在振镜校正装置上，所述振镜校正装置包括依次连接的激光器100、振镜200和场镜300，所述激光器100发出激光依次经过振镜200和场镜300后照射在加工平台400上，所述加工平台400被场镜300照射到的部分为扫描区域410，还包括需要进行校正操作的校正区域420，所述校正区域420设置在所述扫描区域410内，所述校正区域420的面积不大于所述扫描区域410的面积，其特征在于，所述的振镜200校正方法包括以下步骤： S100、确定场镜300的扫描区域410、第一校正区域421和中心点422； S200、以所述中心点422为基准，沿顺时针或逆时针方向，作多个辅助直角三角形423，以每个辅助直角三角形423的短直角边为边长，作多个辅助正方形424，将所有完全处于所述场镜300的扫描区域410的辅助正方形424拼接而成的区域拟合成一块，形成第二校正区域425； 所述步骤S200中， 所述辅助直角三角形423的斜边为场镜300的扫描区域410的半径，所述辅助直角三角形423的长直角边为以所述中心点422为基准的水平线或竖直线，所述辅助直角三角形423的短直角边为斜边与场镜300的扫描区域410的交点到所述水平线或所述竖直线的垂线，且使得每个所述辅助直角三角形423的最小角的正切值均为0.5。

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